Occasion OXFORD Plasmalab 100 ICP #293663032 à vendre en France

OXFORD Plasmalab 100 ICP est un équipement polyvalent de gravure et d'ashing pour les applications de fabrication de semi-conducteurs. Il est réputé pour ses performances fiables, sa rentabilité et sa simplicité d'exploitation. Le système est doté d'une double chambre pour permettre un traitement parallèle des matériaux afin de raccourcir les délais de traitement. L'unité comprend une chambre de gravure d'hydrocarbures et une chambre de cendrage propre et sèche. La chambre de gravure des hydrocarbures est conçue pour accueillir une gamme de substrats comprenant des dépôts métalliques, du silicium polycristallin et du verre. Il offre une température maximale de 500 ° C et est compatible avec divers milieux gazeux dont HF, HCL, Ar et O2. La chambre de gravure des hydrocarbures de la machine offre une bonne sélectivité et un bon contrôle du profil de surface pour les procédés de gravure. L'outil de cendrage propre-sec dispose d'une configuration de tube de quartz et d'une source de plasma RF intégrée. Cette chambre fonctionne à 500 ° C et permet le dépôt rapide de couches de silicium polycristallin, d'oxydes de silicium et de verre. L'actif dispose également d'un contrôleur plasma intégré pour un contrôle efficace et précis des paramètres du processus. Plasmalab 100 ICP offre une interface simplifiée et conviviale pour le fonctionnement et la surveillance des processus. Il a été conçu pour une intégration facile dans les processus de fabrication existants, avec une gamme de recettes et de paramètres de travail définissables par l'utilisateur pour améliorer la productivité. Le modèle offre également des capacités de surveillance avancées, y compris le diagnostic des défauts, la détection des anomalies de processus et le contrôle automatique des recettes. En outre, l'Oxfod OXFORD Plasmalab 100 intègre les dernières technologies d'impression et de capture d'image numérique pour permettre l'impression et la visualisation de motifs de plaquettes. Plasmalab 100 ICP est un équipement de pointe conçu pour le contrôle de haute performance et précis des processus de gravure et d'ashing. Son logiciel intuitif permet un fonctionnement rapide et facile et sa conception robuste assure un fonctionnement à long terme. Ce système hautement fiable est adapté aux applications de fabrication de semi-conducteurs à moyenne et grande échelle et est un choix idéal pour les laboratoires et les centres de recherche.