Occasion OXFORD Plasmalab 133 Plus #9130693 à vendre en France

ID: 9130693
Style Vintage: 2004
RIE (FL) dry etcher RIE set up for SiO2 Etch 330mm Platen RF Power: 600W, 13.56MHz Load lock with Turbo Pump Water cooled electrode 10C-80C Gas pod with 6 lines including following MFCs: Ar: 100sccm N2: 200sccm CHF3: 200sccm NF3: 200sccm N2O: 200sccm Windows PC , user friendly interface 2004 vintage.
OXFORD Plasmalab 133 Plus est un équipement de graveur/asher conçu pour un large éventail d'applications de traitement du plasma. Cet outil est équipé d'une alimentation rapide qui assure un fonctionnement de haute qualité tout en conservant un matériau de substrat précieux. Le système fournit aux utilisateurs une interface fiable et facile à utiliser pour des processus précis et reproductibles. Il s'agit de l'outil idéal pour la gravure et le dépôt de pulvérisateurs dans une variété d'applications, telles que la production de circuits, le stockage de données et la fabrication de dispositifs nanotechnologiques. Plasmalab 133 Plus est alimenté par une alimentation multifréquence avancée à trois étages avec une puissance de sortie maximale de 200 W pour un fonctionnement efficace et précis. L'alimentation est conçue pour fournir une puissance constante pour les processus répétables, tout en maîtrisant la transition délicate de la gravure par pulvérisation RF à DC. De plus, le générateur permet à l'unité d'être utilisée avec une large gamme de chambres, buses et aspirateurs pour une performance optimale du procédé. OXFORD Plasmalab 133 Plus est équipé d'une chambre à vide intégrée capable de recevoir une variété de tailles de substrat. La chambre présente une structure étanche qui empêche les gaz de gravure de s'échapper et assure le maintien des conditions optimales du procédé. En outre, la machine est équipée d'un contrôle automatique du débit de gaz, permettant à l'utilisateur de programmer des concentrations de gaz spécifiques avec des résultats précis et reproductibles. Plasmalab 133 Plus offre également une interface logicielle évoluée et intuitive. Ce logiciel convivial permet de contrôler tous les paramètres du processus, y compris le débit et la pression du gaz, ainsi que des options pour définir les profils de débit du gaz, la régulation automatique de la pression et d'autres fonctionnalités avancées. De plus, l'outil est compatible avec de nombreux systèmes CAO pour une intégration facile des processus dans toutes les installations. Dans l'ensemble, OXFORD Plasmalab 133 Plus est un atout idéal pour des applications de gravure et de dépôt précises et répétables. Son alimentation avancée, sa chambre à vide intégrée et son logiciel intuitif sont conçus pour garantir aux utilisateurs des résultats fiables et de haute qualité. Cet outil polyvalent est l'ajout parfait à tout laboratoire, permettant aux utilisateurs de réaliser une variété de processus plasmatiques rapidement et avec succès.
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