Occasion OXFORD Plasmalab 133 #293712618 à vendre en France
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ID: 293712618
Reactive Ion Etcher (RIE)
ADVANCED ENERGY HiLight 136 RF Generator
Chamber:
Etching chamber
Loadlock chamber
Chamber turbo pump:
ALCATEL ATH 400M
ACT 600M Controller
Gas lines:
Cl2 - 100 SCCM
BCl3 - 100 SCCM
CH4 - 50 SCCM
Ar - 100 SCCM
NF3 - 100 SCCM
CHF3 - 200 SCCM
N2O - 200 SCCM
RF Generator power supply: 600 W, 13.56 MHz.
OXFORD Plasmalab 133 est un graveur et asher à plasma inductif (ICP) conçu pour un contrôle précis et une répétabilité lors des processus de gravure et de cueillette des plaquettes. L'unité est constituée d'une chambre cylindrique à quartz, d'une source de plasma à distance et de trois sections de pompage. Le générateur haute fréquence (RF) intégré dans Plasmalab 133 fournit des températures élevées et un contrôle précis des paramètres plasmatiques pour les applications de gravure. La séquence gravure et asher qui peut être programmée dans OXFORD Plasmalab 133 est parmi les plus précises et répétables disponibles, permettant de réaliser avec précision des profondeurs de gravure précises et d'excellents résultats sur la surface de la plaquette. Plasmalab 133 est capable de produire une profondeur de gravure efficace de plus de 10µm, tout en maintenant une uniformité de 99,9 % sur une surface de plaquettes allant jusqu'à 8 ". Les autodiagnostics automatisés améliorent la fiabilité et la stabilité des systèmes, contribuant à garantir que chaque gravure est effectuée selon des spécifications précises. L'unité est conçue pour une excellente compatibilité des composants et avec une large gamme de produits de gravure, d'aides au conditionnement, de substrats et de réactifs spécifiques au processus. Les parois de chambre en quartz d'OXFORD Plasmalab 133 ont été conçues pour être rincées avec du HF-HNO3, offrant un excellent nettoyage et une protection contre l'environnement corrosif du processus. Les trois sections de pompage de Plasmalab 133, une section de turbo-pompage, une pompe de diffusion et un système de cryopumping, fournissent un système de vide entièrement configurable. La flexibilité de ces pompes permet de maintenir des processus fiables sur une large gamme de pressions et de températures. Une source d'ions intégrale à faible consommation d'énergie permet d'accélérer les ions jusqu'à l'énergie nécessaire à une gravure efficace. OXFORD Plasmalab 133 etcher et asher fournit aux utilisateurs un système de gravure fiable, reproductible et précis. L'unité est capable de fournir des profondeurs de gravure précises sur de grandes surfaces de plaquettes et convient à une variété d'applications industrielles de gravure et de cendrage.
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