Occasion OXFORD Plasmalab uEtch #293604265 à vendre en France

OXFORD Plasmalab uEtch est un équipement de gravure avancé conçu pour la production de structures nanoélectroniques et plasmoniques. Il est très polyvalent, ce qui le rend adapté à la recherche, au développement et aux applications industrielles. L'etcher est basé sur une conception multi-têtes, permettant l'expérimentation avec un large éventail de paramètres pour optimiser la formation de motifs et le rendement. Le système supporte à la fois la gravure directionnelle et non-directionnelle, permettant des motifs de gravure complexes ainsi que l'encombrement, gravure sur-gravure. Au cœur de l'unité se trouve un générateur de puissance radio-fréquence (RF) à couplage inductif, capable de fournir des densités d'ions positives et négatives. Cela permet un contrôle précis du processus de gravure, permettant à l'utilisateur d'ajuster la vitesse de gravure et de sélectionner le profil requis. Pour assurer un processus cohérent et stable, le générateur est équipé de rétroaction et de surveillance d'interférence. La machine Plasmalab uEtch est livrée avec une interface tactile conviviale, permettant à l'utilisateur de contrôler divers paramètres, notamment la vitesse de gravure, la tension d'accélération et la séparation des électrodes. En outre, l'outil supporte différents modes de commande, tels que la boucle ouverte ou fermée, assurant que le processus de gravure peut être précisément surveillé et ajusté pour le meilleur résultat. L'actif possède également une chambre à plasma isolée, qui assure que les particules chargées générées par le procédé de gravure n'interfèrent pas avec d'autres paramètres du modèle. Par mesure de sécurité supplémentaire, l'équipement est équipé d'un bouton d'arrêt d'urgence pour les situations indépendantes de la volonté de l'utilisateur. Le système est conçu pour la production de grandes surfaces et permet une intégration facile avec d'autres équipements. Il est très fiable, offrant un rendement élevé et une production rentable. L'un des principaux avantages de l'utilisation d'OXFORD Plasmalab uEtch est ses caractéristiques de sécurité avancées. L'etcher est équipé d'extincteurs, d'écrans de confinement plasma et d'une série de filtres pour prévenir la contamination. Cela garantit la sécurité d'utilisation de la machine et minimise tout risque potentiel. Plasmalab uEtch est un outil de gravure puissant, polyvalent et fiable, ce qui le rend idéal pour la production de structures nanoélectroniques et plasmoniques de haute qualité. Son débit élevé et son bon rapport coût-efficacité en font une option viable pour les chercheurs, les développeurs et les entreprises.