Occasion OXFORD PlasmaPro 100 Cobra 300 #293804644 à vendre en France
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Le Cobra 300 Oxford Pro 100 est un équipement de pointe pour graveur et asher de plasma conçu pour le traitement précis et efficace de divers matériaux dans les industries du semi-conducteur, du MEMS (Micro-Electro-Mechanical Systems) et de la nanotechnologie. Cet outil de pointe intègre une technologie de pointe et des fonctionnalités innovantes pour offrir un traitement plasma haute performance avec un contrôle et une répétabilité des processus supérieurs. La Cobra 300 est équipée d'une chambre de procédé polyvalente et hautement configurable qui permet une large gamme d'applications de gravure et de cueillette de plasma. Le système dispose d'une grande chambre de procédé avec une distribution de plasma uniforme et une source de plasma haute densité, permettant une gravure et une aspersion uniformes sur toute la surface du substrat. Cela garantit des résultats de processus cohérents et une répétabilité de processus élevée, ce qui le rend idéal pour la fabrication d'appareils de haute qualité avec des spécifications strictes. L'un des points forts de l'OXFORD, le Cobra 100 Cobra 300, est sa flexibilité dans l'adaptation d'une variété de gaz et de produits chimiques. L'unité est capable de manipuler à la fois des procédés de gravure isotrope et anisotrope, ce qui la rend adaptée à un large éventail d'applications, y compris la gravure au silicium, la gravure diélectrique, le strippage de résistance et la modification de surface. La machine supporte un large éventail de gaz de procédé, y compris le fluor, le chlore, l'oxygène et d'autres gaz de spécialité, permettant un contrôle précis de la sélectivité des gravures, de la vitesse de gravure et des profils des parois latérales. Le Cobra PlasmaPro 100 300 traits a avancé la technologie source de plasma, en incluant un haut pouvoir le générateur de RF et un design d'électrode unique, pour produire et soutenir un plasma ferme pour le traitement efficace et uniforme. L'outil offre un contrôle précis des paramètres plasmatiques, tels que les débits de gaz, la pression, les niveaux de puissance et les tensions de polarisation, ce qui permet d'affiner les conditions de traitement pour une performance optimale. Ce niveau de contrôle est essentiel pour atteindre une sélectivité, une uniformité et une reproductibilité élevées dans les processus de gravure et d'ashing. En ce qui concerne l'automatisation et le contrôle, OXFORD CentrePro 100 Cobra 300 est équipé d'une interface logicielle sophistiquée qui fournit des capacités intuitives de programmation et de surveillance des processus. L'actif offre une opération basée sur la recette, permettant aux utilisateurs de facilement configurer et exécuter des séquences de processus complexes avec une intervention manuelle minimale. Le logiciel assure également un suivi en temps réel des paramètres clés du processus, tels que la pression, la température, les flux de gaz et la puissance RF, permettant aux utilisateurs de surveiller et d'ajuster étroitement les conditions du processus pour obtenir des résultats optimaux. Conçue avec la productivité et la fiabilité à l'esprit, la 100 Cobra Pro 300 comprend une construction robuste, des composants de haute qualité et des caractéristiques de sécurité avancées pour assurer un fonctionnement ininterrompu et la sécurité des utilisateurs. Le modèle est conçu pour un débit et une disponibilité élevés, avec des fonctionnalités telles que des temps de pompage rapides, des capacités d'échange rapide de gaz, et un accès facile à l'entretien pour minimiser les temps d'arrêt et maximiser la productivité. Dans l'ensemble, OXFORD CentrePro 100 Cobra 300 est un équipement polyvalent et performant pour graveurs et asher de plasma qui offre un contrôle de processus inégalé, la flexibilité et la fiabilité pour une large gamme d'applications de semi-conducteurs et de nanotechnologies. Sa technologie de pointe et ses caractéristiques innovantes en font un outil indispensable pour la recherche et le développement, le prototypage et la fabrication à haut volume dans l'industrie de la microélectronique.
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