Occasion OXFORD PlasmaPro 100 #293752371 à vendre en France

Le OXFORD-Pro 100 est un graveur/asher de qualité industrielle spécialement conçu pour les processus de gravure et d'ashing dans la photolithographie, la réparation de masques et la fabrication de dispositifs microélectroniques. Il fonctionne en combinant l'énergie RF avec une atmosphère de gaz oxydant et gravant pour induire un plasma à haute température qui élimine les matières indésirables d'un substrat. La machine est capable de contrôler à la fois la gravure chimique et la gravure physique des substrats ainsi que la gravure et l'ashing des films. Le cœur de cette dernière est son générateur RF avancé, qui produit un signal haute fréquence d'une portée allant jusqu'à 20MHz. Cela permet des processus de gravure et de cueillette précis et répétables. Le générateur est relié à deux antennes RF réglables indépendamment, l'une pour la gravure chimique et l'autre pour la gravure physique. Tous ces composants travaillent ensemble pour fournir à l'utilisateur un haut niveau de contrôle sur les processus de gravure et de cueillette. La chambre de gravure/cueillette d'OXFORD, l'OXFORD, peut loger deux substrats à la fois et peut atteindre des températures comprises entre -25 et + 40 ° C, ce qui permet de graver et de cacher un large éventail de matériaux. La chambre est également équipée d'un régulateur de débit massique pour contrôler précisément la pression de la chambre et l'écoulement des gaz de gravure et d'aspiration. Cela garantit en outre la cohérence et la répétabilité des processus. La sécurité est de l'importance capitale avec PlasmaPro 100 et la chambre etching/ashing est correspondue avec l'écoulement et les détecteurs de pression pour activement y contrôler l'atmosphère. Un dispositif de verrouillage de sécurité est également présent pour assurer l'intégrité de la chambre et les matériaux nocifs ne sont pas autorisés à pénétrer dans l'espace de travail. Le modèle OXFORD-Pro 100 supporte de multiples tailles de substrat allant de 1 « x 1 » à 8 « x 8 ». Les traversées des câbles RF et des conduites de gaz sont toutes de tailles standard, permettant une connexion directe à une variété de substrats. La machine dispose également de rétroaction de signal électrique pour permettre un contrôle plus strict du processus, et un affichage haute résolution et une interface utilisateur intuitive rendent le fonctionnement de la machine simple. En général, PlasmaPro 100 est une machine etching/ashing extrêmement fiable et facile à utiliser. Son générateur RF avancé, ses doubles antennes RF, ses paramètres RF tempérés et contrôlés avec précision rendent la machine bien adaptée à une large gamme de processus de gravure et de cueillette.