Occasion OXFORD PlasmaPro 100 #293807691 à vendre en France

OXFORD PlasmaPro 100
Fabricant
OXFORD
Modèle
PlasmaPro 100
ID: 293807691
PECVD System.
L'OXFORD-Pro 100 est un équipement haute performance de graveur et asher de plasma développé par OXFORD Instruments Plasma Technology. Cet outil de pointe est conçu pour répondre aux exigences exigeantes de la recherche et du développement ainsi que des environnements de production dans le semi-conducteur, MEMS (Micro-Electro-Mechanical Systems), optoélectronique, et d'autres industries connexes. PlasmaPro 100 offre une plate-forme flexible pour le traitement de plasma précis, en permettant aux utilisateurs d'accomplir la gravure à l'eau forte supérieure et les résultats d'ashing sur un large éventail de substrates. Le OXFORD-Pro 100 est doté d'une conception de chambre à la fine pointe de la technologie qui assure une distribution uniforme du plasma et une utilisation efficace du gaz, assurant ainsi des résultats de traitement cohérents et reproductibles. Le système est équipé de sources de plasma avancées et de mécanismes de contrôle qui permettent un réglage précis des paramètres du processus tels que les débits de gaz, la puissance RF, la pression et la température. Ce niveau de contrôle permet aux utilisateurs d'adapter la chimie du plasma et l'énergie pour optimiser les performances du procédé pour des applications spécifiques. Un trait clé de PlasmaPro 100 est sa flexibilité dans la manipulation des types différents de substrates, en incluant des gaufrettes de semi-conducteur, du verre, de métaux et des polymères. L'unité offre des options personnalisables de manipulation de substrat telles que les tailles de plaquettes, les types de mandrin et le contrôle de la température pour accueillir un large éventail de types et de tailles d'échantillons. Grâce à cette polyvalence, OXFORD CentrePro 100 convient aux laboratoires de recherche, aux lignes de production pilotes et aux installations de fabrication à grande échelle. PlasmaPro 100 est équipé avec une gamme de systèmes de livraison du gaz qui soutiennent tant la gravure à l'eau forte que les processus d'ashing. Les utilisateurs peuvent choisir parmi une variété de gaz de procédé, tels que le chlore, le fluor, l'oxygène et l'argon, pour obtenir la sélectivité de gravure souhaitée, l'anisotropie et le contrôle de profil. La machine comprend également un outil de pompe très efficace pour l'évacuation rapide de la chambre et le contrôle précis de la pression du processus, améliorant la répétabilité et la fiabilité du processus. Afin d'assurer la sécurité et le respect des normes de l'industrie, OXFORD CentrePro 100 est construit avec des systèmes d'interception robustes, des mécanismes de détection des fuites de gaz et des dispositifs d'arrêt d'urgence. L'actif est conçu avec des interfaces logicielles conviviales qui fournissent des capacités intuitives de suivi et de contrôle des processus. Les opérateurs peuvent facilement configurer des recettes de processus, surveiller les données de processus en temps réel et analyser les résultats pour optimiser la performance du processus. En plus de ses capacités de traitement avancées, PlasmaPro 100 est manigancé pour l'aisance d'entretien et de praticabilité. Le modèle intègre des outils de diagnostic et des fonctions de surveillance à distance pour permettre la planification proactive de la maintenance et le dépannage. Les Instruments D'OXFORD offrent le soutien technique complet, les programmes de formation et l'assistance d'application pour aider des utilisateurs à maximiser la performance et la longévité de leurs systèmes D'OXFORD PlasmaPro 100. En général, PlasmaPro 100 est un graveur de plasma d'avant-garde et un équipement asher qui combine la précision, l'adaptabilité et l'intégrité pour rencontrer les besoins évoluants du semi-conducteur et des industries rattachées. Grâce à sa conception de chambre avancée, à ses options personnalisables de manipulation des substrats, à son contrôle précis des processus et à son interface conviviale, le système OXFORD CentrePro 100 établit une nouvelle norme pour la technologie de traitement du plasma et permet aux utilisateurs d'obtenir des résultats supérieurs dans leurs applications de recherche et de production.
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