Occasion PLASMA ETCH BT-1/C #9328696 à vendre en France
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ID: 9328696
Plasma cleaner
RF Generator: 600 W
Rack / Electrode chamber
Process: Oxygen / Argon cleaning of thermoplastic
PCB Surface at low power
Cooling unit: Vacuum pump
Heating unit: Process chamber
Computer monitor
Light tower
WIP Tracking PC screen
Chamber main door
PC Access door
Main power switch
WIP Tracking scanner
Pen with touch screen
Does not include electrode.
PLASMA ETCH BT-1/C est un asher et un graveur haute performance conçu pour une variété d'applications de gravure de plasma. Cette unité est disponible dans une variété de tailles, selon l'application. L'équipement comprend une source de plasma, plusieurs sources de gaz et une chambre à plasma contrôlée par ordinateur. La source de plasma est alimentée par un générateur RF à air forcé. La source plasmatique directe plasmatron crée un plasma très stable avec une faible variation potentielle. Ceci permet une gravure optimale. Plusieurs sources de gaz sont incluses, fournissant de l'oxygène, de l'hydrogène, de l'azote et d'autres plasmas. Le système de distribution de gaz contrôlé par ordinateur régule précisément le débit de gaz, la pression et la température de la chambre. Le générateur RF fournit la puissance RF à une seule électrode, créant un champ électrique uniforme dans l'enceinte. Les paramètres du processus sont précisément réglés via un panneau de commande, avec une interface intelligente comprenant des fonctions de réglage automatique, d'alarme et de sécurité. La chambre dispose d'un excellent contrôle thermique, production de plasma uniforme, et une source d'arc cathodique intégrale. L'unité de distribution de gaz, avec ses entrées et sorties multiples, assure un contrôle thermique uniforme tout au long du processus. La géométrie de l'enceinte est spécifiquement conçue pour favoriser la turbulence, en assurant une profondeur de gravure et une vitesse de gravure uniformes. Les parois de la chambre sont conçues et testées pour des performances élevées, offrant corrosion et résistance chimique. Les parois sont également conçues pour minimiser le dépôt de plasma sur les parois, ce qui conduit à des procédés propres. La conception est également conçue pour réduire l'IME, qui est nécessaire dans les applications modernes impliquant des composants électroniques sensibles. La machine dispose également d'un outil sous vide commandé par ordinateur pour contrôler la pression de la chambre. Ceci garantit un équilibre de pression optimal, permettant des performances de gravure fiables. L'actif comprend également un contrôleur de débit massique intégré pour un contrôle précis du processus. Le modèle intégré surveille la température et la pression de vapeur, ainsi que les niveaux d'oxygène et d'argon. PLASMA ETCH BT-1/C est un graveur haute performance conçu pour fournir des résultats précis et reproductibles. Avec ses multiples sources de gaz, son contrôle automatisé et sa conception robuste, le BT-1/C est un outil idéal pour une variété d'applications de gravure de plasma.
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