Occasion PLASMA ETCH BT-1 #9100075 à vendre en France

PLASMA ETCH BT-1 est un graveur et asher qui utilise des plasmas à haute énergie pour graver et cendrer des matériaux organiques et inorganiques. Son fonctionnement est basé sur une conception inductive haute fréquence qui délivre un plasma uniforme et contrôlable au substrat. Il est idéal pour les procédés tels que la gravure diélectrique, la métallisation et la micro-fabrication. PLASMA ETCH BT1 utilise un réseau d'antennes qui génère du plasma haute fréquence jusqu'à 13,56 MHz afin de graver et de cendrer divers matériaux dont le Si, le SiO2, le Si3N4, les métaux et le polyimide. Ceci permet une gravure précise et répétable de couches minces de matériaux, tels que le dioxyde de silicium, pour la fabrication directe de dispositifs. La chambre de gravure de BT-1 a une plage de température confortable de 0-60 ° C (5-90 ° C avec la chambre haute température en option). À l'aide d'une turbo-pompe et d'un système de filtration, la chambre peut atteindre une large plage de pression de fonctionnement de 0,1 à 500 mTorr sans avoir besoin d'une évacuation externe. Cela permet un large éventail de processus de gravure, tels que gravure-et-bande, soulèvement métallique, et gravure de tranchées profondes. BT1 est conçu pour être facile à utiliser, avec son contrôleur de processus intégré assurant un large éventail de paramètres de processus pour la gravure et l'ashing de plasma personnalisé. Le contrôleur de processus intégré peut aider à optimiser la répétabilité en identifiant les paramètres de gravure idéaux basés sur les paramètres de processus, en particulier la vitesse de gravure et l'uniformité. Son lecteur RF commandé par microprocesseur et à couplage direct peut également aider à obtenir une montée et une descente rapides de la puissance RF pendant le cycle de traitement. Cela permet d'augmenter le débit de gravure et de réduire l'impact de la charge des échantillons. PLASMA ETCH BT-1 est également livré avec une large gamme d'accessoires optionnels, tels qu'une tête polarisée par radiofréquence (RF), qui aide à réduire l'adhérence des matériaux sur les matériaux de gravure difficiles. PLASMA ETCH BT1 est conçu pour des procédés de fabrication de haut volume et de haute précision. Il a été utilisé dans la production de micro-électromécaniques (MEMS) et dans la fabrication d'autres micro-dispositifs complexes. C'est un excellent choix pour ceux qui recherchent un graveur facile à utiliser et asher avec une large gamme de paramètres de processus et des caractéristiques robustes.