Occasion PLASMA ETCH BT-2 #9083265 à vendre en France

PLASMA ETCH BT-2 est une plate-forme de gravure de haute précision créée par PLASMA ETCH, Inc. qui permet la gravure à sec sur divers matériaux et substrats. Ce poste de travail est conçu avec une plate-forme d'ingénierie robuste qui combine une répétabilité précise avec contrôle et flexibilité. En combinant des températures élevées et des processus plasmatiques rapides, BT-2 peut graver et asher rapidement et avec précision un large éventail de matériaux. La technologie sous-jacente de PLASMA ETCH BT-2 est basée sur un procédé de gravure plasma haute densité (HDP). Ce procédé utilise une alimentation asymétrique à double fréquence (RF) pour délivrer une puissance hautement répétable au plasma. Le procédé est ensuite stabilisé par une polarisation RF perpendiculaire appliquée au substrat de gravure, ce qui conduit à la formation de structures à haut rapport d'aspect dans le matériau. Le système offre également un contrôle dynamique de l'énergie ionique entre la source et le substrat, permettant une définition précise du masque de gravure tout en améliorant l'uniformité de gravure grâce au réglage de puissance. La conception globale de BT-2 est modulaire et compacte ; son enceinte à vide est construite à partir d'un boîtier en aluminium anodisé, avec une chambre inférieure en acier inoxydable et en aluminium et une chambre à air étanche. Il est conçu pour pouvoir s'intégrer dans n'importe quel laboratoire industriel de taille. La chambre est réglable et permet des processus de gravure CVD et à chambre unique, ce qui la rend adaptée à une grande variété d'applications. De plus, le système est équipé d'un système intégré de verrouillage des processus pour assurer la répétabilité, la sécurité et la qualité du processus. L'utilisation de la puissance RF par PLASMA ETCH BT-2 lui confère plusieurs avantages uniques, tels qu'une vitesse de gravure et une sélectivité accrues, ainsi qu'une meilleure utilisation des matériaux. En outre, son isolation thermique élevée assure une consommation électrique très faible par rapport aux procédés traditionnels, ce qui en fait une option attrayante pour les projets de développement à faible coût. L'incroyable précision de BT-2 garantit également une plus grande précision sur les maquillages et peut produire des lignes aussi précises que 50nm de large sur les emballages en céramique et en couches minces. PLASMA ETCH BT-2 etcher peut être conçu pour répondre aux besoins spécifiques de n'importe quel laboratoire ou utilisateur. Il offre un support matériel complet, une documentation détaillée et un service à la clientèle pour ceux qui cherchent de l'aide pour la configuration et l'exploitation. Avec son design puissant, efficace et fiable, BT-2 est une excellente solution pour toute application de gravure et de cueillette.