Occasion PLASMA ETCH PE-100 #293827871 à vendre en France

PLASMA ETCH PE-100
Fabricant
PLASMA ETCH
Modèle
PE-100
ID: 293827871
Plasma etcher.
PLASMA ETCH PE-100 est un équipement de gravure plasma avancé qui est conçu pour la gravure à grande vitesse des cartes de circuits et d'autres composants. Le système se compose de trois composants principaux : un générateur de plasma haute fréquence, une chambre de traitement du plasma et une unité d'échappement. Le générateur de plasma haute fréquence produit un plasma continu haute fréquence et haute tension dans la chambre de traitement. Le plasma est utilisé pour graver les cartes de circuit et d'autres composants dans la chambre. Le plasma est généré dans le générateur dans des conditions contrôlées. Il est ensuite transféré dans la chambre par un champ électrique qui fournit un niveau constant d'énergie plasma dans toute la chambre. La chambre de traitement du plasma est destinée à contrôler l'ionisation du plasma, typiquement par application d'un champ RF. Ceci permet de contrôler et d'optimiser la gravure des cartes de circuit ou d'autres composants de la chambre. Les parois de la chambre sont en acier inoxydable, et la machine d'échappement assure que les vapeurs produites pendant le processus de gravure sont enlevées et filtrées. Le procédé de gravure plasma est un moyen rapide et efficace de graver les cartes de circuit parce qu'il fournit un niveau de précision et d'uniformité de gravure constamment élevé. Le procédé de gravure peut être adapté aux besoins spécifiques de la carte de circuit en cours de gravure. L'outil est également économe en énergie, ce qui en fait un choix rentable pour la fabrication de cartes de circuit. PE-100 est un choix idéal pour les applications industrielles et commerciales qui nécessitent la gravure de cartes de circuit et d'autres composants. L'actif est conçu pour fournir un processus de gravure fiable et uniforme, et a une espérance de vie longue en raison de la conception robuste des composants. Il est également très polyvalent, car il peut être utilisé pour une variété de processus de gravure différents dans différents paramètres.
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