Occasion PLASMA ETCH PE-100 #9281671 à vendre en France

Fabricant
PLASMA ETCH
Modèle
PE-100
ID: 9281671
System.
PLASMA ETCH PE-100 est un équipement de gravure et d'ashing conçu pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il est développé par PLASMA ETCH, Inc. et est souvent utilisé dans la production de photolithographie. Le système est conçu pour le traitement de plaquettes allant de 4 pouces (10 cm) à 6 pouces (15 cm). Il s'agit d'un graveur/asher polyvalent capable d'effectuer des processus de gravure sèche, de cendrage et de dépôt de couches minces en une seule unité. La machine offre une homogénéité à grande vitesse, qui est obtenue en utilisant une chambre de procédé à double source intégrée qui peut être utilisée pour la gravure ou la cueillette du plasma d'oxygène. Cette chambre de processus peut être modifiée pour optimiser la vitesse de gravure, la sélectivité et l'uniformité. En outre, PE-100 dispose d'une technologie de vide avancée qui offre d'excellents systèmes de pompage et de traitement pour une haute vitesse, une haute uniformité de gravure des vapeurs et de cendre avec des résultats cohérents. Il est également capable d'un contrôle précis de la température, ce qui conduit à une finition de surface du substrat uniforme et contrôlée. Il peut même être utilisé pour des applications avancées telles que la cristallisation et la gravure plus lente au carbone. PLASMA ETCH PE-100 dispose également d'un mécanisme automatisé de verrouillage de charge, qui transporte facilement les plaquettes à l'intérieur et à l'extérieur de l'outil pour des temps d'exécution rapides. Il dispose également de dispositifs de sécurité intégrés, tels qu'une alarme de faible débit et un interrupteur de sécurité d'arrêt pour prévenir tout accident. Il est également conçu pour un fonctionnement et un entretien faciles, avec un contrôle facile et des vues de données. PE-100 est un actif économique et très fiable qui est capable d'obtenir des résultats optimaux, ce qui le rend adapté à une application dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il est capable de gravure et de cendrage précis et efficace, tout en fournissant une large gamme de capacités de traitement des matériaux.
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