Occasion PLASMATECH RIE-80 #9249711 à vendre en France

PLASMATECH RIE-80 etcher/asher est un Etcher Sec Amélioré Plasma qui est conçu pour une variété d'applications allant de l'élimination des couches métalliques à la passivation diélectrique et le dépôt. L'équipement peut être utilisé pour les dispositifs semi-conducteurs, optoélectronique, gravure capillaire, emballage diélectrique, et de nombreux autres substrats. RIE-80 utilise une alimentation RF et une source de plasma indirect pour créer un environnement plasma énergétique qui contribue à améliorer les caractéristiques de gravure du substrat, tout en réduisant la consommation de gaz et le temps de traitement. Le système se compose d'une chambre de serrure, d'une chambre à vide et d'une chambre de traitement. La chambre de verrouillage de charge est utilisée comme zone tampon pour assurer la propreté, exempte de substrats poussiéreux avant d'entrer dans la chambre de traitement. La chambre à vide permet de maintenir un environnement basse pression qui résiste aux particules aléatoires entrant dans le plasma. La chambre de traitement contient tout le processus de gravure et est équipée d'un manipulateur à 6 axes, de l'alimentation et de la source de plasma RF. L'unité est équipée d'une alimentation RF pouvant atteindre 2 kW et d'une source de plasma à double filament de type W couplée inductivement à un guide d'onde. Le circuit imprimé à potentiel de masse assure une connexion électrique parfaite avec la source RF. PLASMATECH RIE-80 etcher/asher offre un contrôle précis du processus de gravure. Le niveau de puissance et le timing sont réglés manuellement et la machine est capable de maintenir un processus réglé pour chaque substrat afin de minimiser l'intervention manuelle. Les utilisateurs sont également en mesure de surveiller le processus en temps réel, y compris la pression, la température et le temps de processus. L'outil offre une excellente résolution, avec une résolution typique de 0,1 µm, ce qui le rend adapté à un travail de haute précision. Dans l'ensemble, RIE-80 est un actif de gravure/cendres efficace et fiable adapté à de nombreuses applications. Il offre un excellent contrôle sur le processus de gravure et la capacité de surveiller le processus en temps réel. Sa haute résolution le rend adapté à un travail de haute précision et sa consommation de gaz est plus faible que les autres systèmes. Le modèle est conçu pour un entretien facile, ce qui garantit une longue durée de vie.