Occasion PLASMATHERM 790 RIE #9055603 à vendre en France

Fabricant
PLASMATHERM
Modèle
790 RIE
ID: 9055603
Style Vintage: 1994
Reactive ion etcher Electrode, 8" RIE (lower electrode only) RFPP - RF5S power supply Leybold 151C turbo, Neslab RTE 111 chiller (6) MKS MFCs, Non-clorine based system with N2 purge End point detector Plasmatherm windows OS 208V, 3 Phase, 60Hz 1994 vintage.
PLASMATHERM 790 RIE ou l'équipement de gravure ionique réactive est une structure cristalline de pointe et un système de gravure à couches minces conçu pour répondre aux exigences les plus élevées pour les applications avancées de traitement des semi-conducteurs d'aujourd'hui. Il est conçu pour être convivial et offrir une reproductibilité de processus de haute qualité. 790 RIE utilise un procédé de gravure assistée par gaz qui combine plusieurs paramètres de gravure dans une unité. Cela donne à l'utilisateur un contrôle total sur le processus de gravure. Les utilisateurs peuvent facilement régler et surveiller tous les paramètres, y compris la puissance plasma RF, la pression, le contrôle du gaz et la température. La machine dispose d'une chambre à vide avec une structure sans fuite qui assure un environnement totalement anaérobie. Cela permet une grande répétabilité du processus de gravure. En outre, l'utilisateur peut ajuster et contrôler tous les composants du processus à tout moment. PLASMATHERM 790 RIE est capable d'accueillir des plaquettes jusqu'à 4 pouces de diamètre, et utilise des matériaux de métaux et alliages à la céramique, quartz et substances organiques. Il est également capable de traiter des films minces, des structures complexes et des structures à haut rapport d'aspect telles que des trous et des cristaux étagés. L'outil est équipé d'une électronique de pointe, d'une interface ordinateur/utilisateur et de programmes de sécurité intégrés. Ces innovations technologiques permettent un contrôle précis des paramètres lors de la gravure. 790 RIE offre des résultats fiables et de haute qualité. Il atteint une qualité de processus globale élevée grâce à sa technologie de processus unique qui allie une haute sélectivité et une grande précision. En outre, sa large gamme de paramètres fournit d'excellentes conditions de gravure pour une variété de matériaux et de substrats et sa conception conviviale assure un contrôle parfait du processus. Ces caractéristiques en font un outil de première classe pour de nombreuses industries produisant des produits semi-conducteurs avancés.
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