Occasion PLASMATHERM 790 Series MF #9382210 à vendre en France

PLASMATHERM Série 790 MF est un graveur/asher précis et polyvalent d'AIXTRON. Ce graveur est conçu pour graver et asher des copeaux, des substrats, des plaquettes et d'autres couches minces de matériau. Il dispose d'un équipement de contrôle de précision intégré pour un résultat précis. Série 790 MF est extrêmement précis et précis, avec une structure de couche interne de seulement 11 microns d'épaisseur. Cela garantit que la gravure et le cendrage précis sont possibles même sur des substrats extrêmement minces. La répétabilité et la précision de la taille de ce graveur est inégalée, avec une résolution de 0,01 μ m à 0,05 μ m réalisable. PLASMATHERM Série 790 MF est conçu autour du procédé de dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD). Il s'agit d'un procédé très fiable et flexible qui permet à l'utilisateur de contrôler la vitesse de gravure, la sélectivité et l'uniformité des couches gravées. Cet graveur est conçu pour graver avec précision et asher des dispositifs à transfert de charge (CCD), des transistors complémentaires métal-oxyde-semiconducteur (CMOS), des condensateurs, des inducteurs, des cartes de circuits intégrés et de nombreuses couches de matériaux plus minces. 790 Série MF a été conçu pour des coûts d'exploitation faibles et des exigences minimales d'entretien. L'etcher a une durée de vie de fonctionnement prolongée, avec zéro temps d'arrêt entre les travaux. Cela garantit une productivité et une efficacité maximales. L'etcher est également facile à configurer et à utiliser, avec une pompe à vide à faible vibration intégrée pour le chargement et le déchargement efficaces des processus. Cet etcher peut être facilement intégré dans n'importe quelle ligne de fabrication et système. PLASMATHERM Série 790 MF dispose d'une unité avancée de distribution de gaz inerte pour garantir des processus de haute qualité et de haute productivité. Cet etcher offre une flexibilité et une fiabilité complètes, avec jusqu'à 4 sources de gaz de procédé indépendantes et jusqu'à 3 pressions de gaz contrôlées indépendamment. Avec une machine de distribution de gaz basée sur des électrovannes à trois et quatre voies, la série 790 MF est capable de fournir les résultats de gravure et d'ashing les plus élevés. De plus, l'etcher offre une alimentation RF avancée pour un contrôle précis de la gestion de la puissance et de l'uniformité des processus. En outre, l'outil avancé de surveillance des données d'exécution permet à l'etcher de surveiller les performances des actifs et de fournir un aperçu de la dynamique du processus. Cela aide à optimiser les résultats de gravure et d'ashing pour des résultats cohérents et de haute qualité.