Occasion PLASMATHERM 790 Series #9382207 à vendre en France

ID: 9382207
Reactive Ion Etcher (RIE) / PECVD System.
PLASMATHERM 790 Série des systèmes Etcher/Asher est une unité multifonctionnelle haute performance conçue pour fournir la précision et la technologie de pointe à une variété d'applications de gravure et de cendrage. La série 790 emploie une source de plasma électrostatique avancée, multi-zones, à vide élevé, permettant un contrôle précis des gaz et une répartition uniforme de la température. Ceci crée un environnement stérile et à basse pression, ce qui le rend particulièrement adapté à des applications telles que la gravure ionique réactive, le cendrage et le dépôt. L'équipement de distribution de gaz actif de la plateforme est composé d'une pompe à vide numérique de haute précision, d'un régulateur de débit massique, d'un système d'échappement intégré et d'une interface logicielle contrôlée par ordinateur. Cette combinaison de matériel et de logiciel de précision permet à l'utilisateur d'ajuster avec précision et précision le débit de gaz, la pression et les paramètres d'énergie ionique, contribuant ainsi à garantir les conditions de traitement répétables qui sont si critiques pour le processus de gravure et d'ashing. La conception avancée de l'unité facilite une gamme d'approches programmables et automatisées. Il permet aux utilisateurs de personnaliser chaque opération avec un minimum d'effort, et a été conçu pour un fonctionnement manuel efficace et précis. Des profils opérationnels préétablis peuvent également être utilisés pour des traitements contrôlés et répétables. PLASMATHERM Série 790 est compatible avec une gamme de photomasques de silicium et de substrats non conducteurs, y compris le quartz, la silice, l'alumine et le polyamide. La fonction de déchargement automatisé de la machine permet de placer et de transporter facilement des plaquettes et d'autres substrats, et son verrouillage de sécurité empêche un arc inattendu ou une exposition à haute température. La série 790 polyvalente est disponible en plusieurs configurations de modèles, et peut être adaptée aux besoins de traitement de l'opérateur. C'est un outil idéal pour les applications de gravure et d'ashing qui nécessitent un contrôle strict de la température, du débit de gaz et de la pression. Son fonctionnement simple et cohérent permet aux utilisateurs de produire une grande variété de gravures et de cendres précises, avec des résultats supérieurs aux méthodes classiques.
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