Occasion PLASMATHERM 790 #293775580 à vendre en France

PLASMATHERM 790 est un équipement de pointe de graveur/asher plasma conçu pour la gravure et le nettoyage précis de semi-conducteurs et d'autres matériaux dans un environnement de recherche ou de production. Cet outil de haute performance est équipé d'une technologie de pointe pour fournir un contrôle de processus supérieur, l'uniformité et la répétabilité, ce qui en fait un choix idéal pour une large gamme d'applications dans le semi-conducteur, MEMS, nanotechnologie, et d'autres industries. La figure 790 présente une chambre de traitement de plasma sophistiquée avec une source de plasma haute densité, utilisant généralement la technologie du plasma à couplage inductif (PIC), qui génère un plasma très réactif qui grave et nettoie efficacement la surface du substrat. Le système est capable de manipuler différentes tailles de plaquettes jusqu'à 200mm et offre une configuration personnalisable pour répondre à différentes exigences de processus. L'un des points forts de PLASMATHERM 790 est ses capacités de processus avancées, y compris les fonctionnalités de gravure et d'ashing. La gravure est un processus critique dans la fabrication de semi-conducteurs, utilisé pour retirer sélectivement des couches de matériaux de la surface d'une plaquette pour créer des motifs, des tranchées ou des vias pour la fabrication de dispositifs. 790 offre un contrôle précis de la vitesse de gravure, de la sélectivité et du profil des caractéristiques gravées, ce qui permet aux utilisateurs d'obtenir des motifs de haute précision avec une résolution de sous-micron. En plus de la gravure, PLASMATHERM 790 peut également fonctionner comme un asher, qui est utilisé pour éliminer les contaminants organiques, les résidus de photorésist, ou d'autres matériaux indésirables de la surface de la plaquette après le processus de gravure. Le module asher de l'unité utilise une combinaison de plasma et de gaz réactifs pour nettoyer efficacement le substrat sans endommager les couches sous-jacentes, assurant la qualité et la fiabilité du dispositif final. 790 est équipé d'une gamme de fonctions de contrôle avancées pour optimiser les performances du processus et assurer des résultats cohérents. La machine comprend un outil de distribution de gaz hautement configurable, un contrôle précis de la puissance RF, un contrôle de la température et une régulation de la pression pour adapter les paramètres du processus plasma en fonction des exigences spécifiques de l'application. De plus, l'actif est intégré à des capacités avancées de détection d'endpoint pour suivre avec précision l'avancement du processus de gravure ou d'ashing en temps réel, permettant une fin de processus précise et un contrôle d'endpoint. De plus, PLASMATHERM 790 offre une interface conviviale avec un contrôle logiciel avancé pour un fonctionnement et un contrôle faciles des paramètres du processus. Le modèle permet aux utilisateurs de créer et de stocker des recettes de processus personnalisées, d'optimiser automatiquement les processus et de générer des rapports de processus détaillés pour l'analyse et la documentation. Les outils avancés d'enregistrement et d'analyse des données permettent aux utilisateurs de suivre les paramètres du processus, de surveiller les performances de l'équipement et d'identifier tout problème potentiel de dépannage et d'optimisation. Au total, 790 est un système de graveur/asher à plasma de pointe conçu pour répondre aux exigences exigeantes des applications modernes de traitement des semi-conducteurs et des matériaux. Avec sa technologie de pointe, son contrôle supérieur des procédés et sa polyvalence, PLASMATHERM 790 offre une solution fiable pour les processus de gravure et de nettoyage de haute précision dans les environnements de recherche, de développement et de production.