Occasion PLASMATHERM 790 #9156794 à vendre en France
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ID: 9156794
Taille de la plaquette: 2-8"
Style Vintage: 2000
PECVD Deposition system, 2-8"
PC OS controlled
11" Electrode
Advanced Energy RFPP - RF5S power supply
Gas panel:4 MFCs
Heated chuck
208V, 60A, 60Hz
2000 vintage.
PLASMATHERM 790 est un graveur/asher plasma qui offre d'excellentes performances de gravure et d'ashing pour une large gamme d'applications. 790 a une conception multi-gaz et plasma charge-lock, ce qui en fait la plate-forme idéale pour la gravure et l'ashing. La conception multi-gaz de PLASMATHERM 790 permet à l'utilisateur de configurer le flux de gaz multiples dans la chambre de gravure. Le blocage de charge plasma permet également l'introduction de différents gaz dans la chambre de gravure sans qu'il soit nécessaire de décharger et de recharger des substrats. 790 est livré avec un équipement de contrôle automatisé pour la gravure précise. Le système de contrôle de la température infrarouge aide à maintenir la stabilité de la température tout au long du processus de gravure, tandis que la précision de la livraison de gaz à faible teneur en COV et l'unité intégrée de contrôle du plasma permettent un contrôle précis des paramètres de gravure tels que la tension de polarisation, la puissance radio-fréquence (RF) et la pression de la chambre. La machine de contrôle automatique permet de minimiser l'uniformité de gravure et d'améliorer l'uniformité de profondeur de gravure. PLASMATHERM 790 est conçu pour accueillir des substrats petits et grands et a un débit de gravure/cueillette à grande vitesse. La grande taille de la chambre et le puissant générateur RF permettent une gravure/cueillette efficace de plaquettes ou de substrats plus épais, ce qui rend cet graveur/cendrier idéal pour la production ou la recherche. 790 est compatible avec une gamme de matériaux précurseurs, tels que l'oxygène, l'argon, l'hélium et l'hydrogène, qui offre aux utilisateurs la flexibilité et le contrôle sur le processus de gravure. PLASMATHERM 790 a une structure de chambre bien isolée, à l'intérieur de laquelle se trouve une zone de plasma de quartz qui offre une excellente uniformité et répétabilité. La conception fermée et étanche aux gaz de la chambre à plasma permet une production minimale de particules, de chaleur et de bruit, ce qui en fait un graveur/asher idéal pour une utilisation en salle blanche. La haute stabilité de 790 le rend aussi extrêmement compatible avec de hauts-N2 processus de gravure à l'eau forte. Dans l'ensemble, PLASMATHERM 790 est un excellent choix de graveur/asher pour divers besoins de gravure et ashing. La conception intelligente de 790 et l'outil de contrôle d'automatisation aident à simplifier le processus de gravure/ashing, offrant aux utilisateurs une plus grande précision et une meilleure uniformité des processus. En outre, la chambre fermée et la conception d'isolation contribue à réduire la chaleur, les vibrations et le bruit tout en offrant une stabilité de température supérieure pour de meilleurs résultats de gravure/cueillette.
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