Occasion PLASMATHERM AMNS-3000E #293618168 à vendre en France

ID: 293618168
Reactive Ion Etcher (RIE).
PLASMATHERM AMNS-3000E est un graveur/aspirateur avancé destiné à la fabrication de dispositifs électroniques, optoélectroniques et microélectroniques. L'équipement est conçu pour la gravure ionique réactive à basse et haute température et la gravure du silicium, du verre et des matières organiques, ainsi que des alliages à base de silicium. Son large éventail de caractéristiques, sa faible consommation d'énergie et sa réputation de système fiable et rentable en font un choix idéal pour une variété d'applications industrielles. L'unité intègre plusieurs options de contrôle, permettant aux utilisateurs de personnaliser leurs opérations et d'obtenir les résultats souhaités. Une de ces fonctionnalités est le contrôleur programmable intégré, qui permet aux utilisateurs de surveiller et d'ajuster plusieurs paramètres, y compris la pression du gaz, la tension, la fréquence, la durée des impulsions, le type d'impulsion et la forme de la forme d'onde. De plus, la machine est capable de surveiller et de contrôler la température, l'humidité et la pression dans la chambre, ce qui permet d'obtenir des résultats précis et reproductibles. L'outil utilise une source de plasma brevetée, capable de générer une puissante forme d'onde hyperfréquence avec une large gamme de fréquences afin d'obtenir des vitesses de gravure élevées. Les formes d'onde stimulent également différents types de matériaux ionisés pour une gravure plus efficace. Les formes d'onde produites peuvent être personnalisées pour répondre aux besoins des utilisateurs, ce qui permet une optimisation rapide et fiable des processus. AMNS-3000E est également équipé de dispositifs de sécurité innovants, tels qu'un dispositif de verrouillage d'armoire et un moniteur programmable haute tension qui empêche l'accumulation excessive de tension. Ce modèle dispose également d'un mécanisme d'étanchéité de pression pour éviter les changements de pression à l'intérieur de la chambre, assurant des résultats précis et reproductibles. Au cœur de l'équipement se trouve la chambre de dépôt sous vide de haute précision, qui a été soigneusement conçue pour fournir des résultats précis de gravure et de dépôt. La chambre comprend un contrôle dynamique de la température, plusieurs ports d'injection de gaz, des capacités de rotation et de mouvement latéral, ainsi que divers contrôles de vitesse d'injection de gaz, permettant d'améliorer la précision du processus. PLASMATHERM AMNS-3000E est un système de gravure polyvalent et performant, offrant un rapport qualité-prix exceptionnel. Ce graveur/asher avancé est un choix idéal pour une large gamme d'applications industrielles telles que la fabrication de puces informatiques, les dispositifs optoélectroniques, MEMS, et les dispositifs microfluidiques.
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