Occasion PLASMATHERM Dual chamber 730/720 RIE #9123973 à vendre en France

ID: 9123973
Taille de la plaquette: 3-8"
Style Vintage: 1994
Ion etcher, 3"-8" RIE Substrate electrode, 11” MKS 286 flow controller Plasmatherm windows based OS (2)MKS Ion gauge controllers 290 Advanced energy RF5S power supply AM502 matching network Leybold 361C turbo Gas distribution center (5) MKS Mass flows 3 phase, 30A 1994 vintage.
PLASMATHERM Dual Chamber 730/720 RIE est un outil de gravure et d'ashing polyvalent et puissant. Il est capable de créer des caractéristiques complexes de différentes formes et profondeurs sur des surfaces complexes et détaillées. Conçu pour le traitement d'une large gamme de matériaux, il est idéal pour les applications en microélectronique, MEM et la fabrication de composants optiques. Cette machine utilise une combinaison de gravure ionique réactive (RIE) et de plasma radiofréquence pour graver et/ou asher des matériaux de différentes formes et tailles. Il fournit un contrôle précis du temps de traitement et de la pression, permettant un débit élevé de pièces avec des résultats supérieurs. Il est composé de deux procédés dans un équipement à double chambre. Tout d'abord, la chambre à plasma RF est utilisée pour créer un profil de température uniforme et une vitesse de gravure uniforme sur la surface de la plaquette. D'autre part, la chambre RIE est utilisée pour polymériser et concentrer les ions en surface. Ce système à double chambre assure une performance et une uniformité maximales pour chaque tâche. Le 730/720 RIE se compose d'une chambre à vide, d'un générateur RF, d'une entrée de gaz de procédé et d'une unité de pression contrôlée. La chambre est conçue pour maintenir les plaquettes jusqu'à 8 "et dispose d'un mandrin électrostatique pour maintenir avec précision les plaquettes en place. Le processus de gravure profonde a lieu à l'intérieur de la chambre, éliminant la contamination des matériaux de l'environnement. Le générateur de puissance RF permet des commandes de gravure supérieures et un chronométrage précis des longueurs de gravure. Le générateur permet également à l'utilisateur d'ajuster la puissance RF générée afin d'optimiser la vitesse de gravure et de créer des structures détaillées complexes. En outre, la machine à gaz de procédé permet de mélanger différents gaz, fournissant plus de variété pour la gravure de différents types de matériaux. La double chambre 730/720 RIE offre une capacité et une précision inégalées, fournissant les résultats de gravure et d'ashing de la plus haute qualité disponibles. Avec sa combinaison de technologie RF et RIE dans un design à double chambre, il est l'outil parfait pour des applications complexes et des tâches de gravure précises.
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