Occasion PLASMATHERM Gen 4 Mask IV #9304311 à vendre en France
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ID: 9304311
Plasma etchers
(3) Chambers
Mask size: 152mm
SMIF pod loader
Buffer station
Load Module (LM)
Transfer Module (TM)
Types of pods: RSP types - ENTEGRIS PEEK pod, GUDENG PEEK pod and ENTEGRIS ABS pod
Buffer station: Mask staging with positive air flow mini environment
Operating system: Windows NT
(3) Process modules (PM): PM1, PM2, PM3
Module: Gen4
Process: Quartz (PM1), MoSi (PM2), Chromium (PM3)
SEIKO SEIKI Turbo pump
Turbo size: 1300 L/sec
PM1:
Channel / DET41 / MFC sccm
CH-01 / SF6 / 5
CH-02 / He / 100
CH-03 / O2 / 200
CH-04 / N2 / 150
CH-05 / Ar / 200
CH-06 / CF4 / 100
CH-07 / CHF3 / 200
CH-08 / H2 / 100
PM2:
Channel / DET42 / MFC sccm
CH-01 / SF6 / 100
CH-02 / He / 100
CH-03 / O2 / 20
CH-04 / N2 / 150
CH-05 / Ar / 100
CH-06 / CF4 / 100
CH-07 / N2 / 100
CH-08 / N2 / 100
PM3:
Channel / DET43 / MFC sccm
CH-01 / CL2-toxic / 200
CH-02 / He / 100
CH-03 / O2 / 50
CH-04 / N2 / 150
CH-05 / Ar / 25
CH-06 / N2 / 100
CH-07 / N2 / 100
CH-08 / N2 / 100.
PLASMATHERM Gen 4 Mask IV est un graveur/asher de pointe conçu pour obtenir des résultats précis de gravure et d'ashing sur un large éventail de matériaux et de substrats. Cette machine est idéale pour produire des composants gravés et cendrés de haute qualité, offrant une précision et une répétabilité supérieures. Gen 4 Mask IV dispose d'un écran tactile LCD, qui permet aux utilisateurs de contrôler divers paramètres de processus tels que le type de gaz, la pression et le temps. En outre, la machine dispose de systèmes de contrôle automatisés qui peuvent être facilement programmés en fonction des besoins spécifiques de chaque projet. PLASMATHERM Gen 4 Mask IV est équipé d'un équipement à gaz moderne de type venturi qui assure l'uniformité et la précision des débits de gaz et des températures nécessaires pour obtenir des résultats cohérents. En outre, la machine est équipée de systèmes de sources de plasma avancés qui fournissent des vitesses de gravure et de cueillette supérieures pour réduire les temps de retournement. De plus, le Gen 4 Mask IV est conçu pour minimiser les dommages plasmatiques au substrat, permettant une précision maximale du procédé et des rendements de production élevés. PLASMATHERM Gen 4 Mask IV comprend également un système de régulation thermique multi-soupapes unique qui permet aux utilisateurs de choisir parmi plusieurs profils de température prédéfinis. L'unité est conçue avec une large plage de température de 0-200 ° C, ce qui offre aux utilisateurs la flexibilité de créer l'ensemble parfait de conditions pour leurs besoins de gravure et d'ashing. En outre, Gen 4 Mask IV est extrêmement facile à installer et à utiliser. Son interface utilisateur intuitive assure un fonctionnement efficace, permettant aux utilisateurs d'accéder rapidement et facilement à toutes les informations nécessaires pour faire démarrer leurs projets. En outre, la machine est équipée d'une machine de refroidissement à air avancé qui réduit les températures de fonctionnement afin d'augmenter le rendement et d'améliorer la stabilité du procédé. PLASMATHERM Gen 4 Mask IV est un graveur et asher idéal pour obtenir des résultats précis de gravure et ashing sur une large gamme de matériaux et de substrats. Avec ses fonctionnalités avancées et sa conception conviviale, cette machine offre aux utilisateurs la flexibilité et la précision nécessaires pour créer des composants de haute qualité qui répondent à leurs spécifications exactes.
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