Occasion PLASMATHERM Mask IV #9228114 à vendre en France

PLASMATHERM Mask IV
Fabricant
PLASMATHERM
Modèle
Mask IV
ID: 9228114
Dry etcher Gen 4.
PLASMATHERM Mask IV est une machine de gravure/cueillette très avancée qui est utilisée dans les applications académiques et professionnelles. Elle a été saluée pour ses technologies de pointe et ses résultats de haute qualité. Masque IV est équipé d'un équipement avancé de génération de plasma qui aide à produire une large gamme de paramètres de processus, tels que la profondeur de gravure, l'amplitude, la durée, et ainsi de suite. En outre, il utilise la technologie de revêtement de plaques à faible perte qui assure une épaisseur de film précise, des rapports d'aspect uniformes et des géométries serrées. Avec la gamme complète de paramètres de précision, ce graveur/asher peut couvrir toutes les applications de la recherche la plus avancée aux besoins de production. La machine est également équipée d'un système breveté d'alignement des cibles (TAS) qui assure un positionnement précis du substrat, du masque et de la cible. Ceci est crucial pour obtenir les meilleurs résultats de gravure dans des géométries serrées. L'unité de positionnement de la commande de commande fournit la stabilité et la précision nécessaires pour les mouvements précis du TAS, tandis que la machine de focalisation sans déviation (DFFS) permet de s'assurer que les zones de gravure ne s'écartent pas de la zone souhaitée. Cela garantit des performances de gravure de haute qualité à chaque fois. PLASMATHERM Mask IV dispose également d'une série de ressources de suivi de processus pour garantir la qualité et l'uniformité des résultats de gravure. Il a intégré des capacités d'intelligence et de surveillance de processus qui peuvent restaurer les paramètres de processus dans leurs paramètres définis pour les performances de gravure répétables. En outre, l'outil de charge thermique rapide peut rapidement faire passer la chambre du mode gravure au mode cendres pour assurer le plus haut niveau d'uniformité de processus. Cet etcher/asher est également équipé d'une gamme de dispositifs de sécurité. Il dispose d'un dispositif de surveillance du gaz qui déclenche une alarme si la chambre atteint un niveau de processus potentiellement dangereux. De plus, Mask IV dispose de paramètres de fonctionnement préétablis pour assurer une répétabilité précise du processus et prévenir toute situation dangereuse. Enfin, la capacité de surveillance du vide permet de s'assurer que seuls des niveaux de vide sûrs sont atteints dans la chambre pendant le processus de gravure. Dans l'ensemble, PLASMATHERM Mask IV est un graveur/asher très avancé et puissant qui fournit aux utilisateurs d'excellents résultats. Ses technologies de pointe sont bien adaptées à toutes les applications, de la recherche fondamentale à la production de masse à haut volume. En outre, ses caractéristiques de sécurité aident à garantir que le processus de gravure est sûr et efficace.
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