Occasion PLASMATHERM Odyssey #293752702 à vendre en France

PLASMATHERM Odyssey est un graveur/asher à la fine pointe de la technologie avec des capacités de traitement plasma avancées conçues pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs avancés. Cet outil innovant offre des performances de gravure et d'ashing supérieures, ce qui en fait un acteur clé dans le domaine du traitement plasma pour la fabrication de semi-conducteurs. Odyssey dispose d'un design polyvalent qui permet une large gamme de personnalisation de processus et de flexibilité, le rendant idéal pour la recherche et le développement ainsi que des environnements de production à haut volume. Son équipement de contrôle avancé offre un réglage précis des paramètres de processus, permettant aux utilisateurs d'obtenir des résultats de haute qualité avec une variation minimale. Une des caractéristiques clés de PLASMATHERM Odyssey est sa source de plasma à double fréquence, qui offre un meilleur contrôle du processus et l'efficacité. En utilisant des fréquences basses et hautes, ce système est en mesure de créer un environnement plasma optimisé pour une variété d'applications de gravure et d'ashing. Cette capacité à double fréquence permet une meilleure sélectivité de gravure, le contrôle du profil et l'uniformité, conduisant à l'amélioration des performances et du rendement de l'appareil. Odyssey est équipé d'une gamme de systèmes de distribution de gaz et d'outils de surveillance des processus pour assurer des conditions de processus optimales et la détection du point final. L'unité de distribution de gaz est capable de délivrer un mélange précis de gaz de procédé dans la chambre, permettant un réglage fin de la chimie du plasma pour des besoins spécifiques du dispositif. En outre, la machine comprend des techniques avancées de détection des points d'extrémité telles que la spectroscopie optique d'émission (OES) et la spectrométrie de masse, permettant un suivi en temps réel du processus et assurant une détermination précise des points d'extrémité de la gravure et des cendres. Pour améliorer le contrôle et la répétabilité des processus, PLASMATHERM Odyssey dispose d'un outil de puissance RF avancé qui permet un contrôle indépendant des sources à double fréquence. Cela permet d'ajuster avec précision les niveaux de puissance et les fréquences afin d'optimiser les caractéristiques plasmatiques pour un large éventail de matériaux et d'exigences de processus. L'actif comprend également des capacités d'adaptation d'impédance avancées pour assurer un transfert de puissance efficace vers le plasma, ce qui améliore la stabilité et l'uniformité du processus. Odyssey est équipé d'une variété de configurations de chambres et d'options de manutention de plaquettes pour répondre à différentes tailles de substrat et exigences de processus. Sa conception polyvalente permet un traitement par lots et monobloc, ce qui le rend adapté à un large éventail d'applications dans l'industrie des semi-conducteurs. En outre, le modèle dispose d'une interface conviviale avec un contrôle logiciel intuitif, permettant une configuration et un fonctionnement faciles de processus complexes. En conclusion, PLASMATHERM Odyssey est un équipement de pointe de graveur/asher qui offre un contrôle de processus, une flexibilité et des performances inégalées pour les applications de fabrication de semi-conducteurs. Ses capacités avancées de traitement du plasma, sa source de plasma à double fréquence, ses systèmes de contrôle précis et ses outils complets de surveillance des processus en font un outil essentiel pour les chercheurs et les fabricants qui cherchent à obtenir des résultats de haute qualité dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs.