Occasion PLASMATHERM SL 730 #9132973 à vendre en France

PLASMATHERM SL 730 est une technologie avancée de gravure et d'ashing conçue pour répondre aux besoins de multiples applications dans la fabrication industrielle et scientifique de dispositifs semi-conducteurs. Il offre un traitement de haut débit et de précision pour la gravure et la cueillette des métaux, polymères, SiC et autres matériaux semi-conducteurs. Le SL 730 comprend une technologie brevetée, intégrée, de procédé plasma à plusieurs niveaux comprenant un procédé unique de plasma à couplage inductif multi-anode (ICP). Ceci est combiné avec une technique standard de planaire sur plaquette à un niveau. Cette configuration avancée assure la plus grande précision de gravure et de cendrage des performances. Le dispositif peut être utilisé à la fois dans les modes de traitement par lots et en continu. Le traitement par lots de plaquettes de 6 "est possible dans la configuration standard du réacteur. La taille des plateaux du réacteur peut également accueillir des plaquettes de 8 « et 12 ». Le mode continu permet la production de grands volumes de produits de haute qualité jusqu'à 24 CISR/heure. PLASMATHERM SL 730 peut être intégré dans une variété de systèmes de procédés semi-conducteurs. Il dispose d'une robuste conception d'armoire de stabilisation de processus avec un blindage à faible bruit, une technologie de contournement et un contrôle de température avancé. SL 730 permet une haute précision, gravure à haut débit et cueillette des métaux, polymères et semi-conducteurs. Il utilise des PIC avancés pour assurer une absorption minimale des matériaux par substrat et une utilisation optimale des ressources. Il offre une plus grande évolutivité de processus avec une grande chambre pouvant accueillir des lots de 8 « et 12 » wafers en mode batch et continu. De plus, sa technologie intégrée brevetée et son blindage à faible bruit assurent une collecte efficace des poussières et un contrôle des processus renouvelables pour des résultats cohérents.