Occasion PLASMATHERM SLR 730 #293663368 à vendre en France
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ID: 293663368
PECVD System
Controller
Single chamber with loadlock
Gas configuration:
Silicon oxide
Silicon nitride
Silane
Nitrous oxide
Ammonia
Sulfur hexafluoride
Operating system: Windows 95.
PLASMATHERM SLR 730 est un appareil graveur et asher à plasma conçu pour une utilisation dans l'industrie des semi-conducteurs. Il dispose d'un design avancé avec une chambre de processus modulaire capable de fournir une très grande uniformité et répétabilité. Ce dispositif de qualité industrielle est capable de graver et d'aspirer des applications et est idéal pour les processus de gravure sur des géométries étroites jusqu'à 0,08 µm. La chambre de procédé est construite à partir d'un matériau breveté, conçu pour offrir une résistance supérieure à la corrosion et à la manipulation. Il dispose également d'une enveloppe d'eau remplaçable en creux pour un meilleur refroidissement du substrat. La chambre de procédé comprend un plateau de gravure/cendres robuste et un mandrin électrostatique pour le serrage répétable du substrat avec des susceptibilités minimisées. Ce plateau est coaxial au bocal, offrant des capacités de gravure/cendres ultrathéniques plus précises. L'électronique de commande a été améliorée pour fournir un processus de gravure entièrement automatisé avec une interface graphique utilisateur intégrée. Grâce à cette interface, on peut prérégler, stocker et suivre chaque recette de processus. En outre, il existe un processus intégré de supervision pour une gestion efficace des composants du système. Cette conception fournit un contrôle de processus de haute précision avec une couverture uniforme à une température de plaquette constante. Le système de distribution de gaz offre un contrôle agressif des flux de gaz multiples et simultanés. Jusqu'à trois sources de gaz peuvent être délivrées par une boîte à gaz dédiée dans une seule chambre. La boîte à gaz comprend un régulateur de débit massique intégré et un analyseur de gaz avec des capacités d'échantillonnage flexibles pour un contrôle diligent des processus. Il existe également un réseau de support plasma intégré capable de détecter et de surveiller les conditions plasmatiques. Le bloc d'alimentation PCW 208 est une source numérique haut de gamme adaptée à la plupart des applications de gravure et d'ashing RIE. Ce dispositif offre une largeur d'impulsion réglable et un taux de répétition pour une gamme de processus étendue. Il est également conçu avec deux sorties indépendantes lorsqu'il est combiné avec un transformateur d'isolation céramique élevé. PLASMATHERM SLR-730 est capable de graver et d'aspirer. Sa conception intelligente et ses commandes avancées fournissent la puissance et la précision nécessaires pour produire des résultats de haute qualité. Ce dispositif est parfait pour les processus de gravure avancés exigeant une couverture uniforme avec de faibles variations de plaquettes à plaquettes. Avec son boîtier à gaz intégré et son alimentation haut de gamme PCW 208, SLR 730 est sûr de se révéler un atout précieux pour tout fabricant de semi-conducteurs.
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