Occasion PLASMATHERM SLR 730 #9132975 à vendre en France

PLASMATHERM SLR 730
Fabricant
PLASMATHERM
Modèle
SLR 730
ID: 9132975
PECVD system, Single chamber configuration RFPP, RF5S generator plasmatherm, Process/Sequence controller 80486, PC control system sequential, Process capability vacuum, loadlock, Modular concept gases MKS 1160B, MFC 2000 sccm he brooks 5850, MFC 2000 sccm N2 brooks 5850, MFC 500 sccm N20 brooks 5850, MFC 20 sccm ammonia ebara A70W, Dry pump leybold D30A wet pump.
PLASMATHERM SLR 730 est un Etcher/Asher entièrement automatisé conçu pour être utilisé dans une grande variété d'applications de précision. C'est le choix idéal pour l'élimination rapide et efficace du dépôt de couches minces sur substrat, et il est également utilisé pour effectuer des étapes de procédé telles que l'encapsulation et l'élimination diélectrique. PLASMATHERM SLR-730 possède un certain nombre de caractéristiques uniques qui en font un excellent choix pour le traitement de tout type de structure semi-conductrice. SLR 730 a une grande chambre de travail qui est en acier inoxydable et est équipé d'un équipement de production de gaz de haute qualité. Cela garantit que la chambre est maintenue propre et exempte de contaminants pendant le processus de gravure ou de cueillette. Le procédé de gravure et de cueillette utilise un mélange d'oxygène pur et d'argon avec une excellente uniformité, qui peut graver rapidement et avec une vitesse de gravure très haute précision. Le processus de gravure et de cueillette est renforcé par un mécanisme breveté de distribution de gaz de protection de classe 5 à haut rendement thermique, qui permet un transfert d'énergie à haut rendement et des résultats de gravure uniformes sur tout le substrat de l'échantillon. La chambre est également équipée d'une source de vapeur d'eau et d'un épurateur personnalisés et auto-ajustés pour assurer un nettoyage efficace de la chambre entre les étapes du processus. L'épurateur purge la chambre de particules, en veillant à ce que les surfaces adjacentes soient complètement propres avant l'étape suivante du procédé. SLR-730 est également livré avec un système de profil laser multidirectionnel, qui permet un profilage précis tout au long du processus. La vitesse de gravure est constamment surveillée pour assurer un profil uniforme, et l'unité multidirectionnelle de profil laser permet aux opérateurs de maximiser les résultats de processus sans surgravure des zones sensibles du substrat. En outre, PLASMATHERM SLR 730 dispose également d'une interface de contrôle conviviale qui permet d'ajuster les paramètres du processus, permettant à l'opérateur d'adapter facilement le processus de gravure et d'ashing au type de matériau à graver. Cela permet à l'opérateur d'optimiser facilement les résultats pour chaque type de substrat et de déterminer la configuration optimale du processus rapidement et efficacement. Dans l'ensemble, PLASMATHERM SLR-730 est un graveur/asher polyvalent et puissant conçu pour une large gamme d'applications de précision. Il offre une combinaison de gravure rapide et efficace du dépôt de couches minces sur des substrats, ainsi que la capacité d'effectuer plusieurs étapes de procédé telles que l'encapsulation et l'élimination diélectrique. L'interface de contrôle conviviale facilite l'adaptation du procédé au type de substrat, et la machine à profil laser adaptable permet un profilage précis. Toutes ces caractéristiques se combinent pour fournir un outil de gravure et d'ashing extrêmement puissant pour toute structure semi-conductrice.
Il n'y a pas encore de critiques