Occasion PLASMATHERM SLR 770 ICP #293771258 à vendre en France

PLASMATHERM SLR 770 ICP est un équipement de pointe de graveur/asher plasma conçu pour des procédés avancés de fabrication de semi-conducteurs dans des environnements de recherche et industriels. Ce système offre un contrôle de processus supérieur, des capacités de gravure précises et une excellente uniformité pour la fabrication de dispositifs de haute qualité. Au cœur de PLASMATHERM SLR 770 se trouve la source de plasma à couplage inductif (ICP), qui génère un plasma haute densité et basse pression pour une gravure très efficace et uniforme. Cette technologie permet à l'unité d'obtenir des taux de gravure et une sélectivité élevés tout en conservant de faibles dommages au substrat, ce qui la rend idéale pour un large éventail d'applications, y compris le traitement de semi-conducteurs composés, la fabrication de MEMS, et les dispositifs logiques et de mémoire avancés. La machine dispose d'une chambre de traitement spacieuse qui peut accueillir des substrats jusqu'à 200 mm de diamètre, permettant un traitement par lots et un débit accru. La chambre est équipée de mécanismes avancés de contrôle de la température pour assurer des conditions de processus stables et des résultats cohérents sur plusieurs parcours. En outre, la chambre est conçue avec des systèmes de distribution de gaz et d'échappement supérieurs pour maintenir une densité de plasma uniforme et des profils de gravure. SLR-770 Le PIC offre un large éventail de gaz de procédé et de précurseurs pour soutenir diverses chimies de gravure et la compatibilité des matériaux. L'outil est équipé de régulateurs de débit massique pour un contrôle précis des débits de gaz, assurant un contrôle précis des processus et une reproductibilité. De plus, le modèle est doté d'un équipement de réduction des émissions de gaz de grande capacité pour éliminer en toute sécurité les sous-produits toxiques et les gaz résiduaires produits lors de la gravure. Une des caractéristiques clés de SLR 770 est sa capacité avancée de polarisation RF, qui permet un contrôle indépendant de l'énergie ionique et de la température du substrat pendant le processus de gravure. Cette fonctionnalité permet d'affiner les paramètres du procédé pour obtenir des profils de gravure spécifiques, une sélectivité et une passivation des parois latérales, ce qui donne des caractéristiques gravées de haute qualité avec un minimum de dommages et de rugosité des parois latérales. Le système est équipé d'une interface conviviale et d'une unité de contrôle logiciel qui permet une programmation, une surveillance et une journalisation des données faciles des paramètres de processus. Les opérateurs peuvent facilement configurer et optimiser les recettes de gravure, effectuer des tests diagnostiques et résoudre les problèmes en utilisant l'interface intuitive. La machine offre également des capacités de surveillance et de contrôle à distance, permettant des réglages de processus en temps réel et l'optimisation des performances. En résumé, SLR 770 ICP est un outil de pointe de graveur/asher de plasma qui offre des capacités de processus avancées, un contrôle précis et une grande fiabilité pour les applications de fabrication de semi-conducteurs. Avec sa technologie de pointe, ses performances supérieures et son interface conviviale, cet atout est un choix idéal pour les établissements de recherche et les fabricants de semi-conducteurs qui cherchent à obtenir des caractéristiques gravées de haute qualité avec un contrôle de processus exceptionnel et une uniformité.