Occasion PLASMATHERM SLR 772 #9195260 à vendre en France
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Vendu
ID: 9195260
Taille de la plaquette: 4"
Etcher, 4"
Adapter plates for 2"
ALCATEL 5900 Turbo pump
700W ASTEX Microwave power supply: 2.45 GHz
RF 5S 555W RF supply: 13.56 MHz
Ultra low cooling option: Down to -150°C with LN2
Loadlock (Semi manually controlled with switches)
TEKTEMP TKD-100 Heat exchanger
ASTEX 1000W Microwave supply
Spare ECR head
Aluminum showerhead assembly
Cooling ring for etch option
Deos not include load lock pump
Main console electronics
Process / Sequence controller
Core interface
252C-1-5 Exhaust valve controller
AM-5 700 RF Matching network
Fixed capacitance loading: 600 pF
DC Probe range: 1000 V
AMNPS-2A 700 Matching network power supply
290-03 Ion gauge controller
286 Thermocouple gauge controller
Heater control box
RF-5S RF Generator
Output power: 555 Watts, 13.56 MHz
HS-700 Microwave generator
Output power: 700 Watts, 2.45 GHz
Gas panel:
Chamber 1:
CH1 N2 FSF 20 SCCM
CH2 N2 FSF 50 SCCM
Chamber 2:
CH1 C12 FSF 20 SCCM
CH2 N2 FSF 20 SCCM
Fluid input panel:
Air regulator setting: 80 Psi
Pressure switch: 70 Psi
Input requirements:
Compressed air: 80 Psi
Nitrogen: 20 Psi
Water: 20 Psi
System power center:
Line voltage: 208 VAC
Maximum current: 60 Amps, 4-wire
Motor starter overload current setting
Mechanical pump: 6 Amps
Vacuum pumps:
023-241 Lock mechanical pump
Fluid type: Fomblin 14-6
Charge: 6 Kg
TDK 100 Temperature control system
Fluid type: 50/50 Glycol
Local setpoints CH1: 25°C
Aluminum chamber lid with 10" shower head
Power: 208 V, 60 Hz, 100 Amp
Manuals included.
PLASMATHERM SLR 772 est un graveur/asher de pointe qui fournit des capacités de processus de haute précision pour des applications telles que la gravure de semi-conducteurs, la recherche de matériaux et le dépôt de couches minces. Avec sa conception avancée, SLR 772 offre une précision, une répétabilité et une uniformité élevées pour les processus de gravure et d'ashing. L'équipement utilise une conception de tête de douche en spirale qui offre un accès uniforme, stable et facile à la chambre de gravure et au convoyeur de plaquettes. La tête de douche fournit précisément des paramètres de processus uniformes à la plaquette, assurant ainsi une gravure et une cendre précises et uniformes. PLASMATHERM SLR 772 peut traiter des plaquettes jusqu'à 5 pouces de diamètre, et peut fournir une pression maximale de 3 mTorr ainsi qu'une fonction de contrôle de pression automatisé qui permet une mise en place et un fonctionnement rapides. Une jauge à vide intégrée permet de vérifier le processus et l'étalonnage et peut être utilisée pour surveiller la température des plaquettes en temps réel. Le logiciel avancé fourni avec SLR 772 permet une optimisation complexe des processus grâce à la personnalisation des paramètres. La manipulation automatisée des plaquettes via le chargement et le déchargement des cassettes assure un minimum de temps d'arrêt du système. Une chambre de gravure/traitement réglable permet un traitement rapide et précis de différentes tailles de plaquettes. En outre, le processus de gravure peut être contrôlé par l'unité de vision informatique intégrée, qui fournit une analyse détaillée du processus. PLASMATHERM SLR 772 fournit une variété d'applications de gravure et de traitement, y compris la gravure d'isolation de tranchées peu profondes (STI), la gravure de gâchette, la gravure de trous de contact, la gravure de gâchette enterrée et la gravure de silicium polycristallin. La machine offre des taux de traitement très élevés, avec des temps de traitement aussi bas que 5 secondes. Le procédé de gravure peut être combiné avec d'autres opérations de procédé telles que le dépôt de plasma, ce qui permet la fabrication de dispositifs à haut débit. SLR 772 est un excellent choix pour une variété d'exigences d'application fournissant des résultats cohérents et reproductibles avec une grande efficacité et répétabilité des processus. Avec ses caractéristiques avancées et sa flexibilité, PLASMATHERM SLR 772 est un excellent choix pour les applications de gravure et d'ashing.
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