Occasion PLASMATHERM / UNAXIS 790 #9081010 à vendre en France

ID: 9081010
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2003
Reactive Ion Etcher (RIE), 8" Manual load Non-load lock system RF Power supply with matching network RF 600 W Power supply LEYBOLD 361C Turbo pump with NT20 controller Gas distribution panel consisting of (4) MFCs per process side 2003 vintage.
PLASMATHERM/UNAXIS 790 est un graveur/asher plasma haute précision et haut débit conçu pour des applications multi-utilisateurs. Il est doté d'un design compact et robuste qui peut être utilisé à la fois avec une photolithographie standard et des techniques de balisage ultra-précises. L'équipement utilise une technologie de vide avancée, une faible vitesse, plasma haute pression, et une chambre de section fermée pour obtenir des résultats cohérents avec d'excellentes performances de gravure ou de cendrage. Avec un volume de chambre de 550 litres, le système est capable de recevoir jusqu'à quatre cassettes 8 ". L'UNAXIS 790 comporte une interface utilisateur fiable, conviviale et efficace. Des modules de contrôle de processus distincts sont prévus pour chacun des composants de la chambre, ainsi qu'un logiciel optionnel pour ajuster les paramètres clés (tels que le temps de gravure et la pression) et surveiller le processus. Une fonction mémoire permet de rappeler facilement les processus et paramètres précédemment enregistrés. L'unité est équipée de deux sources de plasma interchangeables indépendamment, dont une source RF haute pression pour la gravure et une source asher d'oxygène pour la gravure et les applications post-traitement. En outre, PLASMATHERM 790 comprend des fonctions avancées de contrôle de processus telles que le contrôle automatique de processus (APC) et le contrôle automatique de gaz (AGC). Avec ces deux fonctionnalités, la machine peut maintenir la répétabilité et la précision du processus en effectuant les ajustements nécessaires pendant que l'utilisateur exécute un processus. L'outil comprend également une pompe turbo à deux étages capable d'atteindre des pressions de base jusqu'à 5 x 10-6 à 10-7 torr, ce qui garantit un environnement de chambre à plasma de haute qualité et faible contamination par les particules. L'actif de distribution intégrée de gaz de la chambre assure un taux de gravure ou de cendrage uniforme avec un minimum de non-irrégularités dans la charge de travail. Le choix des gaz de gravure/ashing (Ar, O2, Cl2, CF4, CHF3, etc.), sa plage de pression réglable (20-150 mTorr) et sa capacité à effectuer une gravure positive ou négative en font un graveur/asher idéal pour une grande variété d'applications. Pour réduire les coûts d'exploitation, le modèle comprend un équipement de mélange de gaz programmable GasClean, qui permet le passage automatique et contrôlé à distance des mélanges de gaz. Cela réduit la quantité d'intervention manuelle requise et les licenciements qui en résultent dans l'utilisation du gaz, tandis que la fonction de recyclage du gaz intégré réduit encore les coûts du gaz. Avec un système de sécurité avancé et une isolation thermique, PLASMATHERM/UNAXIS 790 est conçu pour fournir des performances unitaires optimales avec une répétabilité élevée des processus et un environnement de travail propre et sûr.
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