Occasion PLASMATHERM / UNAXIS 790 #9116459 à vendre en France

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ID: 9116459
Taille de la plaquette: 6"
Reactive Ion Etching (RIE) system, 6" Single chamber Single substrates diameter: Up to 150 mm Parallel plate plasma processing With shower head gas delivery system 6 MFC Gas channels Previous gases: AR, N2, O2, SF6, CHF3, CF4 Menu driven process programming Turbo pumped vacuum system with roughing pump RF Generator: 500 W, 13.56 MHz With matching network.
PLASMATHERM/UNAXIS 790 est un équipement de gravure et d'ashing plasma spécialement conçu pour la production de pièces MEMS haute résolution. Le système dispose d'une unité de boucle fermée pour assurer la meilleure qualité de gravure et de cendrage, ce qui donne des produits qui sont précisément façonnés et ont des caractéristiques extrêmement petites. L'graveur dispose d'une machine de transfert de plaquettes multi-axes qui permet une manipulation et un positionnement précis de la plaquette gravée/cendrée. Il dispose également d'un outil de transfert robotique pour le chargement efficace et sans humain de la plaquette et le déchargement du produit final. L'actif de gravure utilise un modèle de contrôle de processus IntelliFlow et Logiciel standard, permettant un contrôle de processus facile et précis sur les temps de gravure et d'ashing. La source d'énergie RF améliorée magnétiquement fournit plusieurs niveaux de puissance différents, ce qui la rend très efficace dans la création de profils de gravure différents sur la plaquette. L'équipement peut également être accordé pour créer différents profils de gravure et de cendrage. L'UNAXIS 790 utilise une technologie brevetée pour créer un système d'échappement pour un débit d'échappement élevé et un débit de traitement optimisé. Les plaquettes gravées/cendrées sont mises dans une chambre à vide, à basse pression et haute température dans la gamme 75 à 2,75 torr. La source RF augmentée magnétiquement est alors responsable de la création du plasma énergétique élevé, qui continue ensuite à graver et à aspirer la plaquette. Le matériau gravé est ensuite recueilli et transféré. L'unité offre une variété de caractéristiques, y compris le procédé sec et humide, le masque dur compatible, la capacité de pression variable, la manipulation de précision des plaquettes, et plusieurs fonctions de contrôle de processus. Cela fait de la machine une solution très efficace et fiable pour la production de produits MEMS haute résolution. PLASMATHERM 790 offre une excellente répétabilité du procédé, une uniformité et des rendements de produit excellents. L'outil est également conçu pour s'adapter à tout environnement de production à haut volume. Tous les paramètres du processus, tels que la pression, la température et la tension, sont surveillés et contrôlés automatiquement par l'actif, garantissant la plus haute qualité du processus. Ceci permet également de réaliser des gravures/casses de plaquettes très précises.
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