Occasion PLASMATHERM / UNAXIS 790 #9375333 à vendre en France

ID: 9375333
Taille de la plaquette: 4"
Inductively Coupled Plasma (ICP) etcher, 4" (8) MFC Gas inputs NESLAB Chiller Turbo pump Roughing pumps Gases used: Freon Oxygen Argon C318 Nitrogen Power supply: 208 V, 60 Hz, 3 Phase.
PLASMATHERM/UNAXIS 790 est un système de gravure/cendrier développé par UNAXIS/PLASMATHERM pour la gravure et le cendrage de substrats pour des applications avancées d'emballage. L'équipement est une plate-forme compacte sur banc qui utilise des technologies de gravure ionique réactive profonde ou de gravure sèche pour la gravure et l'ashing de divers matériaux. Il combine les avantages de haute précision de gravure, répétabilité et haut débit pour les applications les plus exigeantes. Le système est une unité de chambre unique qui peut supporter une variété de substrats et peut être utilisé pour une variété de processus de gravure, y compris Asher et Dry Etch. Il offre un débit de gaz corrosif optimisé et un générateur RF en chambre robuste pour des processus de gravure/cueillette à haut débit et répétables. Le plasma généré par le générateur RF est utilisé pour produire des ions élevés et des particules énergétiques pour graver et cendrer des substrats de tous types. La machine est contrôlée par un contrôleur haute pression et un logiciel de pointe qui est utilisé pour surveiller et contrôler les paramètres du processus. L'actif dispose également d'un régulateur de vide et d'un moniteur de pression pour assurer une gravure et un cendrage précis et reproductibles. Enfin, le modèle dispose également d'une gamme de dispositifs de sécurité comprenant un verrouillage de porte, un détecteur de fuite de gaz et un équipement d'alarme de gaz. Ces dispositifs de sécurité assurent la sécurité des utilisateurs en empêchant le rejet accidentel de fumées et de gaz dangereux. Dans l'ensemble, UNAXIS 790 est un système de gravure/cueillette polyvalent et fiable qui peut être utilisé pour diverses applications avancées d'emballage. Il offre un débit élevé et une répétabilité pour les applications de production les plus exigeantes.
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