Occasion PLASMATHERM / UNAXIS CONCEPT 1 #9283558 à vendre en France

PLASMATHERM/UNAXIS CONCEPT 1 est un équipement avancé de graveur/asher pour la formation précise de motifs nanométriques. Il combine une source de plasma couplée inductivement à haute pression et à haute température avec un mécanisme modulaire unique de transfert d'échantillons pour améliorer les performances et le débit. Le système est capable d'une gravure et d'un cendrage très précis et reproductibles d'une large gamme de matériaux, avec des caractéristiques allant de l'échelle nanométrique au micromètre. L'unité comprend une source de plasma à couplage inductif contrôlé de précision fonctionnant à la pression atmosphérique et un nettoyage in situ de la surface du mandrin afin de minimiser la variation entre les plaquettes. Le gaz de procédé peut être réglé avec précision à l'aide de trois zones de distribution de gaz, avec la disponibilité de contrôle de débit et de contrôle de réaction chimique pour gérer les processus de gravure/cendres. Le mécanisme de transfert d'échantillons est conçu pour minimiser la variation d'échantillon à échantillon, ainsi que pour fournir une flexibilité de mouvement et de contrôle, facilitant la mise en place rapide de l'outil. L'orientation des plaquettes et le stockage des recettes permettent des temps d'exécution très optimisés pour les processus de gravure et de cueillette complexes. UNAXIS CONCEPT 1 assure également un contrôle environnemental autonome et hautement contrôlé des plaquettes, minimisant les effets des outils et des plaquettes sur la qualité et la reproductibilité des procédés. La machine est équipée d'une gamme de getter ionique et de contrôles de pression, ainsi que de conduites de gaz injectables pour le nettoyage de la chambre et l'optimisation répétable du débit de gaz. L'outil offre des logiciels et des outils matériels conviviaux pour contrôler et commander l'actif. De plus, le modèle est équipé d'un équipement breveté de distribution de gaz, permettant d'optimiser les conditions de gravure et d'ashing jusqu'à quelques nanomètres. Une partie intégrante de PLASMATHERM CONCEPT 1 est le nouveau système de surveillance de la gravure, fournissant un contrôle en temps réel du processus. Cette unité comprend une pile de capteurs séquentiels, comprenant deux capteurs de température et un capteur de pression, pour permettre un contrôle optimal du processus. La machine comprend également un capteur sans contact pour surveiller les profils de gravure. La technologie avancée de CONCEPT 1 le rend adapté à une large gamme de procédés de fabrication de dispositifs nanométriques. Sa combinaison unique d'outils matériels/logiciels et de performances répétables permet la production de fonctionnalités ultra-petites avec des variations significativement réduites. Ceci en fait un choix idéal pour les applications de production de semi-conducteurs.