Occasion PLASMATHERM / UNAXIS SLR 730 #293585536 à vendre en France
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ID: 293585536
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2000
PECVD System, 8"
Dual chamber
Load locked
(2) Carrier plates
EDWARDS IQDP80 Vacuum pump with blower
VARIAN Scroll vacuum pump: Load lock
NESLAB HX-75 Chiller
Electrical breaker box
EMO Buttons
RFPP RF5S RF Generator, 13.56 Mhz, 500 W
Substrate maximum temperature: 350°C
Temperature controller
Power controller
Manuals
Gas box: MKS 1479A Mass Flow Controller (MFC)
Size / Gases
1000 SCCM / N2
20 SCCM / NHS
1000 SCCM / N2
2000 SCCM / N2
2000 SCCM / N2
200 SCCM / (5) SIH4
20 SCCM / NHS
RANGE / 1000 SCCM / N2
2000 SCCM / N2
2000 SCCM / N2
300 SCCM / C3F8
Power supply: 208 V, 3-Phase, 60 Hz
2000 vintage.
PLASMATHERM/UNAXIS SLR 730 est un graveur/asher qui fournit un équipement idéal pour des applications dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Cet etcher est conçu pour fonctionner en salle blanche avec un contrôle de processus entièrement automatisé et est capable de traiter des substrats jusqu'à 200mm par 200mm. Le système comprend plusieurs technologies de gravure et de cueillette telles que la gravure par plasma à couplage inductif (ICP) et la cueillette par plasma d'oxygène. Il est équipé d'une unité de manutention géométrique à 15 positions, permettant un positionnement rapide et précis des échantillons. L'UNAXIS SLR 730 utilise une source ICP pour la gravure et comprend une source à distance intégrée facultative. Cette configuration permet une énergie ionique plus élevée, une durée de vie plasmatique plus longue et une consommation d'énergie plus faible que les autres procédés de gravure de source de soufre DC. En outre, la source du PCI permet un contrôle précis des paramètres de gravure tels que le taux de gravure et la sélectivité. La machine dispose également de sources de gaz inerte à verrouillage de charge, permettant un passage rapide et une contamination minimale. L'idée de verrouillage de charge, ainsi que la source distante intégrée, permet d'exécuter des processus multi-étapes dans un seul outil. De plus, l'outil offre un contrôle précis de la température et une gravure répétable et uniforme de l'épaisseur. L'actif est également capable de graver et de soutirer des plaquettes à des profondeurs précises tout en conservant une bonne morphologie de surface. PLASMATHERM SLR 730 est pré-calibré et prêt à fonctionner sans configuration supplémentaire. Le modèle est compatible avec tous les gaz usuels, avec un équipement d'échange de plaquettes en option pour des transitions rapides entre plaquettes. L'etcher offre un contrôle précis des processus de gravure et d'ashing et est disponible avec une gamme d'options, y compris un spectromètre de masse en ligne et intégré et une détection avancée du point final. Cela permet des résultats de traitement reproductibles et de haute qualité. Le système dispose également d'une manipulation robotique, de plusieurs chambres de processus et d'une interface utilisateur entièrement graphique. Dans l'ensemble, SLR 730 est un graveur/asher exceptionnel. Fournir un contrôle automatisé des processus et une source à distance intégrée ; Cette unité de haute technologie est capable de graver et d'aspirer avec précision des substrats jusqu'à 200mm et est équipée de technologies de gravure/ashing multiples ainsi que d'une machine de manutention géométrique à 15 positions, permettant un positionnement rapide et précis des échantillons. Grâce à sa capacité à exécuter des processus multi-étapes, PLASMATHERM/UNAXIS SLR 730 est un outil idéal pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs.
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