Occasion PLASMATHERM / UNAXIS SLR 740 #9276449 à vendre en France

ID: 9276449
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1999
Reactive Ion Etcher (RIE), 8" Dual chamber PC Controlled Operating system: Windows No ICP LH Chamber: Low vacuum RH Chamber: EDWARDS Turbo Molecular Pump (TMP) With adjustable top electrode gap High vacuum Electrodes, 8" Plasma etch power Load lock Automatic loader and unloader arm, 3"-8" (8) Gas channels Left chamber: Make / Model / Gases / Scale MKS / 1479A / AR / 100 MKS / 1479A / CHF3 / 100 MKS / 1479A / C2F6 / 100 MKS / 1479A / CF41 / 100 MKS / 1479A / SF6 / 50 MKS / 1479A / HE / 100 MKS / 1479A / O2 / 10 MKS / 1479A / O2 / 100 Right chamber: Make / Model / Gases / Scale MKS / 1479A / CF-41 / 100 MKS / 1479A / SF6 / 50 MKS / 1479A / HE / 100 MKS / 1479A / CHF3 / 100 MKS / 1479A / C2F6 / 100 MKS / 1479A / O2 / 10 MKS / 1479A / O2 / 100 MKS / 1479A / AR / 100 Does not include: (2) Chillers Backing / Roughing pump Load lock pump Power supply: 400 V, 50 Hz, 3-Phase 1999 vintage.
PLASMATHERM/UNAXIS SLR 740 est un graveur/asher utilisé dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il est conçu pour le fraisage et le dépôt précis de couches minces sur des surfaces de plaquettes. Le dispositif est spécifiquement destiné à la gravure rapide et précise des masques utilisés dans la réalisation de dispositifs semi-conducteurs. L'UNAXIS SLR 740 a une taille de 4 pouces sur 2,5 pouces (10 cm sur 6,25 cm) pour la compatibilité avec l'équipement utilisé dans les lignes de production typiques. Cet etcher a une pression maximale de 700 mTorr et une température de procédé maximale de 450 ° C Il est capable de déposer du matériau à des vitesses allant jusqu'à 500 μ m/s et peut graver à une profondeur allant jusqu'à 5 μ m/min. Le procédé est ultra propre et contrôlé, à l'aide d'un équipement à base de plasma pour assurer un dépôt uniforme. Ce système dispose d'une unité de sécurité intégrée avancée qui protège l'opérateur des gaz ou particules dangereux. L'appareil dispose d'un panneau de contrôle à écran tactile et d'une interface de menu conviviale pour une programmation facile. Il peut stocker jusqu'à 26 recettes, ce qui permet de réaliser des processus spécifiques sur demande. Le dispositif dispose également d'une machine d'optique autofocus pour assurer la précision, et est livré avec un outil de vision intégré pour s'assurer que les processus sont correctement effectués. Le dispositif dispose d'un actif de rinçage du lisier qui permet l'élimination des contaminants à la fin du processus. Il est équipé d'un modèle de refroidissement intégré qui minimise les temps d'arrêt du processus. Un équipement d'échappement sous vide est également inclus pour assurer la sécurité du processus. La chambre de PLASMATHERM SLR 740 est équipée d'un système de douche à gaz avec contrôle de débit 3 zones. Cela permet un contrôle précis du processus de gravure et améliore encore la répétabilité du processus. L'unité de douche à gaz est surveillée par une série de sondes de température, assurant l'absence de fluctuations de température au cours du processus. En outre, le dispositif est certifié comme un dispositif antistatique et est également conçu avec une machine de radioprotection. Dans l'ensemble, SLR 740 est un appareil de graveur/asher efficace, fiable et précis qui convient à la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il offre une large gamme de caractéristiques et un design efficace qui en font le choix parfait pour toute ligne de production de semi-conducteurs.
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