Occasion PLASMATHERM / UNAXIS SLR Series #293777485 à vendre en France

PLASMATHERM / UNAXIS SLR Series
ID: 293777485
Reactive Ion Etcher (RIE).
PLASMATHERM/UNAXIS SLR Series est une ligne de pointe de systèmes graveurs/asher plasma conçus pour répondre aux exigences exigeantes de gravure et de nettoyage des industries des semi-conducteurs et des films minces. En tant que solution leader dans le domaine des équipements de traitement du plasma, cette série offre des performances, une précision et une répétabilité inégalées pour un large éventail d'applications, de la microélectronique avancée à l'optoélectronique et plus encore. Au cœur de la série SLR de l'UNAXIS se trouve sa technologie sophistiquée de traitement du plasma, qui permet un contrôle précis des processus de gravure et de nettoyage. L'équipement utilise une source de plasma haute densité, typiquement une source radio-fréquence (RF) ou hyperfréquence, pour générer un plasma réagissant avec la surface du matériau traité. Ce plasma peut être configuré pour fournir une variété de chimies, permettant la gravure sélective ou l'ashing de différents matériaux avec une haute sélectivité et uniformité. L'un des points saillants de PLASMATHERM SLR Series est sa polyvalence dans l'adaptation de différentes tailles et types de substrat. Le système peut supporter des substrats allant de petits échantillons à de grandes plaquettes semi-conductrices, ce qui le rend adapté aux environnements de R&D et de production. En outre, l'unité offre une gamme de modes de traitement, y compris le traitement par lots pour les applications à haut débit et le traitement monobloc pour un contrôle précis des échantillons individuels. En termes de capacités de processus, la série SLR excelle dans les applications de gravure et d'ashing. La gravure consiste à retirer sélectivement le matériau de la surface du substrat, en créant des caractéristiques et des motifs précis nécessaires à la fabrication du dispositif. Les capacités avancées de contrôle des processus de la machine garantissent des taux de gravure élevés, une excellente uniformité et une sélectivité supérieure, ce qui la rend idéale pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs avancés avec des tailles de fonctionnalités de sous-microns. La cueillette, en revanche, consiste à éliminer la résine photosensible ou d'autres contaminants organiques de la surface du substrat. La série PLASMATHERM/UNAXIS SLR offre des procédés de cendrage très efficaces avec un minimum de dommages au matériau sous-jacent, assurant des rendements élevés et une fiabilité dans la fabrication des appareils. Le contrôle de la chimie du plasma de l'outil permet l'élimination douce mais efficace des couches organiques, améliorant la propreté globale et la qualité des substrats traités. En outre, la série SLR de l'UNAXIS est équipée de fonctions avancées d'automatisation et de surveillance des processus pour améliorer la productivité et la fiabilité. L'actif comprend un contrôle sophistiqué du débit de gaz, une régulation de la température et des capacités de détection du point final pour assurer un contrôle et une répétabilité précis du processus. De plus, la surveillance des processus en temps réel et l'enregistrement des données permettent aux utilisateurs de suivre les paramètres des processus et d'optimiser les recettes des processus pour obtenir des résultats cohérents. En conclusion, PLASMATHERM SLR Series se distingue comme un modèle de graveur/asher à plasma de pointe qui offre des performances, une flexibilité et une fiabilité inégalées pour une large gamme d'applications de traitement de semi-conducteurs et de couches minces. Avec sa technologie avancée de traitement du plasma, ses capacités polyvalentes de manipulation des substrats et ses fonctions complètes de contrôle des processus, cette série est un choix idéal pour les organisations qui recherchent des solutions de gravure et d'ashing supérieures pour leurs applications les plus exigeantes.
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