Occasion PLASMATHERM / UNAXIS SLR Series #293807239 à vendre en France

La série PLASMATHERM/UNAXIS SLR est une suite de systèmes de graveur/asher avancés spécialement conçus pour répondre aux exigences exigeantes de la fabrication de semi-conducteurs et des applications de recherche. Ces systèmes performants sont dotés de technologies de pointe et d'éléments de conception innovants qui offrent un contrôle supérieur des processus, une répétabilité élevée et une uniformité exceptionnelle de gravure/cueillette sur une large gamme de substrats et de procédés. La série SLR de l'UNAXIS comprend une gamme de modèles, chacun sur mesure pour répondre à des besoins de processus spécifiques et s'adapter à différentes tailles de plaquettes et volumes de production. Ces systèmes sont équipés de sources de plasma à la pointe de la technologie, de systèmes avancés de distribution de gaz, d'un contrôle précis de la température et de capacités de processus flexibles pour permettre une grande variété d'applications de gravure sèche et de cendrage du plasma. Au cœur de PLASMATHERM SLR Series se trouve une chambre à vide très polyvalente conçue pour assurer une distribution plasma uniforme et des interactions gaz-surface efficaces. La chambre est construite à partir de matériaux de haute qualité pour garantir une excellente stabilité du procédé, une faible production de particules et une fiabilité à long terme. Il est équipé de systèmes de pompage avancés pour obtenir une pompe rapide vers le bas et maintenir des niveaux de vide constants tout au long du processus. Les sources de plasma utilisées dans la série SLR sont basées sur des technologies avancées de radiofréquence (RF) et de micro-ondes, offrant un contrôle précis des paramètres plasmatiques tels que la densité, l'uniformité et l'énergie ionique. Ces sources peuvent générer une large gamme de chimies plasmatiques, permettant la gravure/cueillette de différents matériaux, dont le silicium, le dioxyde de silicium, les métaux, les polymères, etc. Les systèmes disposent également de réseaux d'adaptation d'impédance avancés pour maximiser l'efficacité de transfert de la puissance du plasma et assurer une génération de plasma fiable. Le système de distribution de gaz de la série PLASMATHERM/UNAXIS SLR est conçu pour un contrôle précis des gaz de procédé et des débits afin d'atteindre les taux de gravure/cendres souhaités et la sélectivité. Les systèmes supportent à la fois les chimies de gaz standard couramment utilisées dans le traitement des semi-conducteurs, comme l'oxygène, l'argon, l'hexafluorure de soufre et le chlore, ainsi que les mélanges de gaz personnalisés adaptés à des applications spécifiques. Le système de distribution de gaz est équipé de régulateurs de débit massique, de régulateurs de pression et de dispositifs de surveillance du débit afin d'assurer des conditions de processus précises et reproductibles. Le contrôle de la température est un aspect critique des processus de gravure/cueillette, et la série UNAXIS SLR intègre des systèmes de contrôle de la température avancés pour obtenir une uniformité de température étroite sur la surface de la plaquette. Les systèmes comprennent des capteurs intégrés de surveillance de la température, des éléments chauffants et des mécanismes de refroidissement pour maintenir la plaquette à la température désirée tout au long du processus. Ce contrôle précis de la température permet de minimiser les variations de processus et d'assurer la cohérence des résultats de gravure/cendres d'une plaquette à l'autre. La série PLASMATHERM SLR offre également une gamme de fonctions avancées de contrôle des processus, y compris des diagnostics plasma en temps réel, des algorithmes de détection d'endpoint, des logiciels de gestion des recettes et des capacités avancées d'enregistrement des données. Ces fonctionnalités permettent aux utilisateurs d'optimiser les paramètres du processus, de surveiller les performances du processus en temps réel et d'obtenir une répétabilité et un rendement élevés. Les systèmes sont également équipés de panneaux d'interface conviviaux et de logiciels intuitifs pour faciliter le fonctionnement et la maintenance. Dans l'ensemble, la série SLR représente une solution de pointe pour les applications avancées de gravure et d'ashing plasma dans l'industrie des semi-conducteurs. Avec ses technologies de pointe, ses capacités de processus flexibles et ses performances supérieures, ces systèmes sont bien adaptés à un large éventail d'environnements de recherche et de production où la précision, la fiabilité et le contrôle des processus sont primordiaux.