Occasion PLASMATHERM / UNAXIS Versalock #293804241 à vendre en France

ID: 293804241
PECVD System Substrate size: 300mm x 300mm.
PLASMATHERM/UNAXIS Versalock est un nettoyant graveur, asher et plasma conçu pour le traitement des semi-conducteurs, des MEMS et des couches minces. Cet outil est construit avec une chambre à plasma à cathode ouverte propriétaire et de multiples flux de processus, ce qui en fait l'un des outils les plus polyvalents et efficaces pour la gravure et l'ashing de structures délicates. L'équipement dispose d'un nouveau système breveté « Dry Etch Lock-Down » pour une précision supérieure des processus de gravure et d'ashing du plasma. L'unité de gravure Versalock de l'UNAXIS à haute température est configurable pour traiter n'importe quelle taille de substrat jusqu'à 200mm et jusqu'à 12 étages de gravure/cendres dans les configurations. La conception unique en cathode ouverte est optimisée pour offrir un contrôle précis de la densité ionique, des paramètres plasmatiques et des paramètres de processus. La machine offre une chambre de traitement thermique à haute température intégrée, configurée pour tous les types de chimie du plasma et de mélanges de gaz. PLASMATHERM Versalock offre une définition de bord ultra nette, une fatigue de profil minimale et une sélectivité de gravure de faible niveau. L'outil dispose d'un procédé breveté de cendrage à haute température en deux étapes qui assure l'élimination complète du matériau déposé jusqu'au niveau du substrat. Versalock asset offre également une surveillance de la vision intégrée et une cartographie des wafer pour une caractérisation précise des résultats des processus et une modification avancée des processus. Un gestionnaire de recettes avancé est inclus pour fournir l'uniformité des résultats et minimiser le temps consacré à l'expérimentation. Les capacités de mesure et d'analyse sophistiquées de PLASMATHERM/UNAXIS Versalock sont encore améliorées grâce à l'enregistrement des données en temps réel et à l'optimisation des paramètres. Un spectromètre optionnel haute résolution fournit une analyse spectrale des résultats de processus, assurant une caractérisation précise des performances du produit. Un modèle d'essai automatisé est inclus pour assurer la cohérence des produits, leur exactitude et leur traçabilité. UNAXIS Versalock etcher, asher, et nettoyant plasma sont idéales pour les microstructures, MEMS, et microscopiques gravure moléculaire/ashing processus. La conception unique en cathode ouverte élimine la contamination croisée, améliore la définition des bords et améliore l'uniformité des gravures. Le temps d'analyse court et les outils d'essai puissants en font un outil de gravure et de cendres polyvalent et efficace. Avec son système révolutionnaire Dry Etch Lock-Down, PLASMATHERM Versalock se distingue parmi ses concurrents.
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