Occasion PLASMATHERM VLR #9156983 à vendre en France

Fabricant
PLASMATHERM
Modèle
VLR
ID: 9156983
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2002
ICP Bosch system, 8" Cassette to Cassette System (1) LM-TM: Single load lock with single end effector (2) VLR ICP Modules PM1 & PM2 Configuration: (4) MFCs VAT PM5 Throttle valve controller Leybold 1000C turbo pump with NT20 controller ENI 600W RF Power supply for lower electrode with matchwork and tunner Advanced energy RFPP 10M RF power supply Heated chamber walls with 6 zone controller Soffie class III laser endpoint on PM2 Windows OS with plamatherm versaworks software 208V, 30A,60Hz 2002 vintage.
PLASMATHERM VLR est un équipement de graveur et asher conçu pour des applications de gravure et de nettoyage à haut débit, de précision. Le système utilise une technologie innovante pour un processus de fabrication avancé. Ce processus combine les processus plasma de décharge corona de plasma à distance, faisceau d'ion et processus O2-glycol avec un processus plasma d'oxygène pour offrir la plus haute résolution de gravure et des résultats de processus propres. VLR est idéal pour des applications de production sur une variété de surfaces et de substrats, y compris le verre, les métaux et la céramique. La machine dispose d'une interface utilisateur facile à utiliser qui permet un contrôle avancé des processus. Le menu mural à l'écran permet d'accéder à plusieurs paramètres et fonctions, et un écran tactile LCD tactile convivial permet l'exécution simple des commandes d'opération. L'outil dispose d'un puissant éditeur automatisé de recettes, permettant aux utilisateurs de moduler les paramètres pour les opérateurs expérimentés ou de modifier les paramètres pour obtenir des résultats. L'actif est constitué de deux chambres d'interconnexion, qui forment sa chambre de gravure/nettoyage combinée. La première chambre est la chambre de gravure qui se compose de deux « plaques », une plaque inférieure et une plaque supérieure. La plaque inférieure est reliée à une ligne distribuée de sources d'entrée de gaz et est chargée d'acheminer les espèces de gaz réactifs à la surface du substrat. La plaque supérieure est équipée d'électrodes qui génèrent le plasma à la surface du substrat. La deuxième chambre est la chambre de nettoyage, qui est équipée de fixations et de buses pour fournir une variété de solutions de nettoyage différentes. Le modèle PLASMATHERM VLR utilise une source de plasma haute densité (HDP) à haut rendement énergétique pour s'assurer que les espèces réactives sont livrées efficacement au substrat et que des résultats de processus propres et reproductibles sont obtenus. D'autres fonctionnalités avancées comprennent la commutation de gaz, éditeur automatique de recettes, temps de processus rapide, et faible coût de la propriété. Globalement, les équipements VLR etcher et asher offrent une solution puissante pour les applications avancées de gravure et de nettoyage dans l'environnement de production à haut débit. Les concepts de plasma avancés du système et la technologie de source HDP économe en énergie fournissent des résultats de processus supérieurs avec un temps de processus rapide et un faible coût de possession. L'interface conviviale de l'unité, son fonctionnement intuitif et son éditeur automatisé de recettes permettent également d'obtenir rapidement et facilement la meilleure résolution de gravure et des résultats de processus propres.
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