Occasion PLASMATHERM Wafer/Batch 741 #293595646 à vendre en France

PLASMATHERM Wafer/Batch 741 est un graveur/asher de traitement de plasma conçu pour offrir une variété d'applications dans l'industrie des semi-conducteurs. Il s'agit d'un équipement de haute précision qui utilise une combinaison de sources de plasma à double fréquence, de source à haute fréquence pour le processus de gravure et de source à basse fréquence pour l'étape d'ashing. Cette combinaison permet un haut degré de précision et de contrôle sur les paramètres de gravure et de cendres, ce qui la rend idéale pour affiner et optimiser les performances pour des applications spécifiques. PLASMATHERM Wafer/Batch 741 fournit une large gamme de paramètres de fonctionnement, permettant d'adapter les processus de gravure et de cendres aux exigences spécifiques du client. Il en résulte une meilleure uniformité et qualité de surface pour les applications de gravure et de cendres. Une spécialité de ce graveur/asher est sa capacité à accueillir des substrats de wafer dont la taille peut atteindre 200mm de diamètre. En outre, ce modèle dispose d'un système unique d'introduction de gaz fixé à la surface orientée vers l'avant de la chambre d'graveur, qui assure un flux homogène et uniforme de gaz de procédé dans les chambres d'attaque et de cendres. PLASMATHERM Wafer/Batch 741 dispose d'une interface conviviale et intuitive, qui est hautement automatisée et comprend de nombreuses procédures de suivi et de diagnostic. Ces routines permettent aux utilisateurs de surveiller les températures, les pressions et d'autres paramètres tout en contrôlant l'ensemble des processus de gravure et de cendres. En outre, le système intègre également un sous-système automatisé de détection et de récupération des défaillances qui est conçu pour garantir des résultats optimaux à tout moment. Ce système de gravure/cendres est une solution idéale pour l'industrie des semi-conducteurs qui fournit un outil rentable et fiable pour les tâches de wafer et de batch. Il simplifie les processus, améliore le rendement et est conçu pour un fonctionnement robuste. De plus, grâce à l'utilisation judicieuse de divers matériaux, PLASMATHERM Wafer/Batch 741 peut effectuer une gravure et un ashing de haute qualité de substrats, métaux et diélectriques dopés au silicium polycristallin. Sa polyvalence et ses performances en font une solution idéale pour les entreprises qui cherchent à augmenter leur efficacité de production et à réduire leurs coûts.