Occasion PSC DES-212-304AVL #9097138 à vendre en France

PSC DES-212-304AVL
Fabricant
PSC
Modèle
DES-212-304AVL
ID: 9097138
Taille de la plaquette: 6"
Stripper, 6".
PSC DES-212-304AVL est un Etcher/Asher. Il s'agit d'un système de gravure soustractive utilisant des procédés réactifs de gravure ionique et de gravure chimique. Il est spécifiquement conçu pour graver des tailles de plaquettes de 2 « à 8 » avec un maximum de 4 chambres. Cet etcher est capable de réaliser pratiquement n'importe quelle forme, motif de couche ou profil sur des substrats semi-conducteurs comprenant des cartes de circuits imprimés, des LED et des dispositifs haute fréquence/micro-ondes. PSC DES-212-304-AVL etcher est équipé d'une variété de fonctions, y compris le biais RF et DC, la gravure chimique et réactive des ions, et le traitement laser. Chaque chambre est commandée indépendamment pour les deux chambres et est équipée d'alimentations, de réseaux d'appariement RF et de commutateurs DC et RF. En outre, chaque chambre est équipée d'un moniteur à cristaux de quartz à vide pour un contrôle précis de l'environnement de la chambre. Il dispose également d'un contrôleur QCM à pression variable avec tracé en temps réel des décalages de fréquence QCM, permettant un contrôle précis de la gravure en temps réel. En outre, DES-212-304AVL dispose d'une boîte à gaz programmable et contrôlée par microprocesseur pouvant contenir jusqu'à 10 gaz. L'graveur est capable de supporter une grande variété de chimies de gravure, y compris le chlore, l'ammonium, les nitrates, les halogénures organiques et les espèces chimiques supérieures. Le système avancé de contrôle de la flexion des gaz avec vannes de pincement à vide donne à l'graveur une gravure fiable et haute performance pour une variété de procédés. DES-212-304-AVL est le graveur idéal pour une grande variété d'applications. Il est capable de graver avec précision et précision de petites caractéristiques complexes avec un contrôle de profondeur uniforme. Il est notamment capable de réaliser des motifs complexes, une planarisation et des profils profonds, ainsi que des retouches photolithographiques précises sur des substrats semi-conducteurs. Il est également très reproductible et fiable, ce qui en fait un excellent choix pour l'utilisation de la production.
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