Occasion PSK DES-212-304AVLIII #9269462 à vendre en France

PSK DES-212-304AVLIII est un équipement de gravure et de cendrage de pointe conçu pour traiter un large éventail de substrats, notamment des métaux, des polymères et du verre. Le système est équipé d'un réacteur PECVD avec un tube en quartz pour déposer les revêtements et une unité de soulèvement pour séparer les structures individuelles. La PSK DES 212 304 AVL III est équipée d'une chambre de traitement en acier inoxydable robuste avec des supports de plaquettes mobiles verticalement conçus pour l'uniformité de température pendant le processus de gravure et de cendrage. DES-212-304AVLIII offre une gamme avancée de capacités de processus, appuyées par des systèmes de contrôle et de surveillance de chambre dédiés. L'etcher est équipé d'un régulateur de température programmable Peltier pour surveiller et maintenir les températures de processus. La machine est également équipée d'un régulateur de débit massique de haute précision pour la mesure précise des gaz de procédé. Le processus de gravure et de cueillette est également surveillé et contrôlé à l'aide d'un écran tactile haute performance. DES 212 304 AVL III etcher est capable de traiter des substrats de dimensions allant jusqu'à 8 « x 8 » (203mm x 203mm). Il est équipé de technologies sophistiquées de gravure et de cendrage, y compris la gravure ionique réactive (RIE), la gravure par plasma inductif (ICP), la gravure chimique et la gravure humide. L'outil est conçu pour traiter les substrats jusqu'à une température maximale de 600 degrés Celsius et une pression maximale de 760 Torr. En outre, PSK DES-212-304AVLIII dispose d'une station de post-traitement unique pour le dépôt de revêtement protecteur et d'un système intégré de verrouillage de sécurité. L'etcher comprend également un large éventail de capacités de métrologie et d'inspection in-situ et ex-situ. Le modèle est livré avec des options de stockage et de récupération de données robustes pour faciliter l'analyse et l'optimisation du processus de gravure et de cueillette. PSK DES 212 304 AVL III etcher est conçu pour fournir des performances de traitement fiables avec un rendement maximal. L'etcher est équipé d'une interface graphique conviviale et de commandes point-and-click facilement accessibles pour un fonctionnement rapide et facile. L'etcher est bien adapté à un large éventail d'applications de recherche et développement.