Occasion PVA TEPLA 300 AL PC #293753962 à vendre en France

PVA TEPLA 300 AL PC est un graveur/asher plasma de pointe fabriqué par PVA TEPLA AG, un leader mondial dans les solutions de traitement de surface du plasma. Cet équipement de pointe est spécialement conçu pour le traitement plasma précis et efficace d'une large gamme de substrats dans diverses industries, telles que les semi-conducteurs, les MEMS, l'optique et la microélectronique. 300 AL PC offre une interface conviviale, un contrôle de processus supérieur et une grande fiabilité pour obtenir des résultats cohérents et de haute qualité. PVA TEPLA 300 AL PC utilise la technologie plasma de pointe pour graver les substrats de cendres avec une grande précision et uniformité. Le système est équipé d'une chambre en aluminium robuste qui garantit une excellente stabilité thermique et de hautes performances sous vide. La chambre est conçue pour accueillir différentes tailles et formes d'échantillons, ce qui la rend très polyvalente pour différentes applications. En outre, la chambre dispose de systèmes fiables de distribution de gaz et d'échappement qui permettent un contrôle précis des paramètres du processus. L'une des caractéristiques clés de 300 PC AL est son unité de génération de plasma innovante. La machine utilise la puissance RF haute fréquence pour créer une décharge plasma stable et uniforme à l'intérieur de la chambre. Cette source de plasma est essentielle pour activer les molécules de gaz et générer des espèces réactives qui interagissent avec la surface du substrat pour graver ou cendrer sélectivement le matériau. L'outil permet un contrôle précis des paramètres plasmatiques, tels que les débits de gaz, les niveaux de pression et les réglages de puissance, afin d'optimiser le processus pour des applications spécifiques. PVA TEPLA 300 AL PC est équipé de capacités avancées de surveillance et de contrôle des processus pour garantir des résultats cohérents et reproductibles. L'actif comporte des diagnostics plasmatiques en temps réel, tels que la spectroscopie optique d'émission (OES) et la spectrométrie de masse, qui permettent la surveillance in situ de la chimie du plasma et de la cinétique des procédés. Cette boucle de rétroaction permet d'ajuster en temps réel les paramètres du processus pour maintenir des conditions optimales et atteindre les taux de gravure ou de cendres souhaités. En outre, 300 PC AL est équipé d'une interface conviviale et d'un modèle intuitif de contrôle logiciel qui simplifie le fonctionnement et l'analyse des données. Le logiciel de l'équipement offre une gamme de recettes pré-programmées pour les processus communs et permet aux utilisateurs de personnaliser et d'enregistrer leurs paramètres de processus pour une utilisation future. En outre, le logiciel fournit des fonctionnalités complètes d'enregistrement des données et de déclaration qui permettent aux utilisateurs de suivre les performances des processus et d'optimiser leur flux de travail. En conclusion, PVA TEPLA 300 AL PC est un graveur/asher plasma de pointe qui offre des capacités avancées pour le traitement précis et efficace d'une large gamme de substrats. Grâce à son système de génération de plasma innovant, à sa conception robuste de la chambre et à ses fonctions avancées de contrôle des processus, l'unité est idéale pour la recherche et le développement, la production pilote et les applications de fabrication à faible volume. 300 AL PC établit une nouvelle norme pour les équipements de traitement du plasma et aide les clients à atteindre leurs objectifs en matière de traitement de surface et de traitement des matériaux avec une précision et une fiabilité inégalées.