Occasion PVA TEPLA / TECHNICS Gigabatch 300M #293752384 à vendre en France

PVA TEPLA / TECHNICS Gigabatch 300M
ID: 293752384
Plasma system.
PVA TEPLA/TECHNICS Gigabatch 300M est un équipement de gravure/ashing conçu spécifiquement pour la fabrication électronique et les procédés de fabrication de semi-conducteurs. C'est un système robuste et fiable qui produit des produits semi-conducteurs de haute précision avec des gravures précises et répétables. L'unité est conçue pour un maximum de 300 plaquettes par lot et peut effectuer tout un processus de gravure/ashing pour une série de 20 étapes en une seule fois. Chaque lot prend de une à deux heures, et tout le processus peut être terminé en quelques jours. La température de la chambre est contrôlée à l'aide d'une machine avancée refroidie à l'eau qui aide à réduire le temps de gravure et de cueillette. La densité de courant réglable et la régulation avancée de la puissance plasmatique garantissent des résultats cohérents pour tous les processus et étapes. L'outil fonctionne avec des paramètres de production haute fréquence, permettant à l'utilisateur de contrôler la vitesse de gravure et le niveau de précision obtenu. Ses caractéristiques de sécurité garantissent que tous les points de fin de processus sont correctement conclus. La précision du film de gravure et de cendrage sur la plaquette dépend de la capacité de la machine à contrôler avec précision le temps de gravure, le débit de gaz et la puissance du plasma. TECHNICS Gigabatch 300M dispose de fonctions de programmation multistep avec plusieurs paramètres et une interface graphique haute résolution pour assurer la précision et la cohérence. Les alimentations d'électrodes ponctuelles optimisées assurent la stabilité, avec une plage réglable allant jusqu'à 100 watts, avec la possibilité de stocker jusqu'à huit profils de puissance distincts. La fréquence réglable permet de faire fonctionner l'actif en mode continu ou alternatif sans avoir à évacuer ou à évacuer les gaz indésirables. La conception de la chambre présente une version améliorée du modèle plasma ultrapure bien connu, fournissant un environnement de production uniforme pour les processus de gravure et de cueillette. La chambre améliorée purge le plasma et la paroi de la chambre tout en gravant et en aspirant, ce qui permet des résultats cohérents sans épuisement gazeux. PVA TEPLA Gigabatch 300M fonctionne en mode manuel ou automatisé, et communique avec des appareils externes via une interface Ethernet et une communication SNMP. Il dispose de caractéristiques de sécurité avancées comprenant un équipement d'échappement à plasma réglable en pression et un système d'impulsions anti-électromagnétiques pour protéger l'équipement contre les défauts électriques. Sa polyvalence extraordinaire permet à la fois de longues séries de production et de courts essais. Gigabatch 300M est conçu avec des composants de qualité industrielle afin d'assurer une productivité et une fiabilité maximales dans une large gamme d'applications de production de semi-conducteurs. Cette unité de gravure et de cendrage offre une méthode très fiable, très précise et efficace pour produire des produits semi-conducteurs de haute qualité.
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