Occasion PVA TEPLA / TECHNICS PlanarEtch II 750 #145818 à vendre en France

PVA TEPLA/TECHNICS PlanarEtch II 750 est un graveur/asher conçu spécifiquement pour répondre aux besoins des applications avancées de lithographie et de micromachining. Ce graveur/asher est capable d'un traitement de haute précision et est fiable, économique et facile à utiliser. L'équipement est équipé d'un écran LCD couleur haute résolution à vue directe et d'une interface informatique intuitive qui offre une charge de programme facile ainsi qu'une navigation simple à travers les menus du système. TECHNICS PlanarEtch II 750 est équipé d'une source de plasma DC générant un processus extrêmement stable et répétable avec la combinaison optimale de sélectivité et d'uniformité. L'unité est équipée d'une machine de contrôle de gaz innovante pour la surveillance et la commande de débit de gaz de précision pour répondre aux exigences de traitement les plus exigeantes. Les paramètres du processus tels que les débits de gaz, les taux de gravure, le réglage de polarisation et d'autres processus sont réglables pour différentes applications. L'outil est capable de traiter des substrats jusqu'à 8,5 « x 8,5 » de taille. Le substrat est positionné sur un plateau d'aluminium de 30 degrés et est maintenu en place avec un mécanisme de serrage non intrusif qui assure la plus grande précision et uniformité. L'actif dispose également d'un modèle de contrôle de la pression de la chambre qui maintient des conditions de gravure optimales lorsque l'équipement est utilisé sous vide ou sous pression. PVA TEPLA PlanarEtch II 750 est un système très fiable et conçu pour une disponibilité maximale. L'unité comprend une machine de surveillance du sous-système avec une protection automatique contre l'arrêt des tâches et la prévention de la surchauffe, ainsi que l'entrefer de puissance et l'entrefer de porte. L'outil est également équipé d'un solide programme d'autodiagnostic qui surveille l'état général des processus et de la santé des actifs. PlanarEtch II 750 est une solution de gravure à guichet unique. Il est compatible avec les plasmas inductifs couplés, les gravures ioniques réactives, les gravures de contact et les procédés de gravure à n puits. Ce modèle polyvalent peut remplacer plusieurs techniques traditionnelles de traitement de solutions, offrant ainsi des procédés de haute qualité, reproductibles et fiables pour la lithographie avancée et le micromachining.