Occasion QUATERNARY JSPCS-750 #9395897 à vendre en France

QUATERNARY JSPCS-750
Fabricant
QUATERNARY
Modèle
JSPCS-750
ID: 9395897
Plasma cleaner.
QUATERNARY JSPCS-750 est un graveur/asher utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs. Il dispose de paramètres optiques réglables pour une utilité maximale dans une grande variété d'applications. JSPCS-750 est un équipement entièrement automatique qui comprend plusieurs capteurs de température pour un contrôle précis de la température. Le graveur/asher dispose d'un générateur intelligent de faisceau E, d'un système d'imagerie optique avancé et de l'unité de vide Vacu-Vario qui supporte les applications de nettoyage pour les très petits matériaux thermosensibles. QUATERNARY JSPCS-750 est conçu avec un réservoir de grande capacité et une conception à jet multiple qui assure une gravure ou une cale parfaitement distribuée de tous les matériaux de substrat semi-conducteur. La chambre de procédé sans biseau a des coins arrondis pour une meilleure distribution du gaz et une uniformité optimale de gravure ou de cueillette. Le graveur/asher dispose également de la technologie d'ajustement et de chronométrage Pulsatron qui est conçue pour réduire l'instabilité de la concentration chimique lors de la gravure. La machine est conçue avec une chambre de contrôle à pression variable et un contrôle de la température, qui est adapté aux applications de gravure ou de cueillette. En outre, JSPCS-750 offre une compensation avancée pour les valeurs de gaz entrant non idéales, permettant aux utilisateurs de personnaliser facilement les paramètres de processus tels que la température, la pression et les débits. L'outil sous vide sophistiqué de l'etcher/aser élimine en toute sécurité les résidus de gravure ou de cueillette et les particules de la chambre de procédé pour un nettoyage rapide et facile des milieux. L'actif comprend également des sources d'ablation de position/angle variables pour l'uniformité répétable des processus. QUATERNARY JSPCS-750 offre une capacité de volume/débit élevée pour une production rapide et rentable. Il est conçu avec un modèle dynamique de stabilisation de faisceau laser HeNe-LiDAR pour un contrôle précis et une précision de traitement améliorée. L'équipement intègre également la chimie de gravure améliorée par l'oxygène pour améliorer le traitement des matériaux semi-conducteurs qui nécessitent un contrôle à haute résolution spatiale. L'etcher/asher dispose également de trois étages de commutation de puissance et de surveillance de la tension pour une gestion efficace de la puissance et un fonctionnement à long terme sans problème.
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