Occasion SAMCO RIE-1C #293753913 à vendre en France

SAMCO RIE-1C est un Ion Etcher réactif (RIE) conçu et fabriqué par SAMCO Inc. Il s'agit d'un asher/graveur à plasma couplé inductivement qui fournit un procédé fiable et reproductible de gravure des matières organiques, diélectriques, photorésistantes et à base de polymères. Il s'agit d'un RIE à usage général et ses caractéristiques comprennent une grande capacité de chambre (226mm de diamètre × 135mm de profondeur), une uniformité de gravure uniforme (± 2 %), une faible consommation d'énergie et un fonctionnement à grande vitesse. RIE-1C comporte un certain nombre d'éléments clés qui contribuent à sa performance. La chambre est composée d'une enceinte en acier inoxydable scellée sous vide avec des fenêtres pour la vue. Son équipement de distribution de gaz comprend une pompe à vide, des manomètres et des régulateurs de débit massique. Il est équipé d'une chambre de diffusion de gaz pour mélanger uniformément et diriger le flux de gaz. Le système de refroidissement consiste en un emballage de gaz inerte pour maintenir la température intérieure uniforme sur la taille de la plaquette. Le générateur de plasma fournit une source de HF DC contrôlée électroniquement pouvant atteindre 1625W. SAMCO RIE-1C possède également des fonctions de sécurité et de contrôle pour protéger les utilisateurs, les opérateurs et la machine. Cela comprend un bouton d'arrêt d'urgence et un compteur de puissance pour surveiller la puissance du plasma. L'unité de contrôle du processus permet de contrôler en détail les paramètres de gravure tels que la pression, le débit de gaz et la puissance. La machine comprend également une interface utilisateur intuitive pour la programmation des recettes et la surveillance des paramètres de processus. RIE-1C est bien adapté à un large éventail d'applications de gravure, allant du nettoyage des surfaces contaminées à l'élimination des dépôts indésirables. Sa taille compacte et sa grande efficacité le rendent idéal pour une utilisation industrielle, à haut débit et en laboratoire. Cet etcher convient à la fois au niveau des plaquettes et au niveau des masques. Les résultats de gravure peuvent être évalués au moyen de systèmes d'imagerie photo et d'analyse optique. Il est également capable de générer des caractéristiques très uniformes, une sélectivité supérieure, des rapports d'aspect élevés et une variation réduite des dimensions critiques (CD). Dans l'ensemble, SAMCO RIE-1C est un asher/etcher efficace et fiable. Il est très polyvalent et capable de produire des résultats fiables et reproductibles avec une large gamme de matériaux couramment utilisés. Les fonctionnalités de sécurité et l'interface utilisateur intuitive en font un choix idéal pour une gamme de processus de gravure. En outre, sa grande capacité de chambre, son uniformité de gravure uniforme et son fonctionnement rapide en font une bonne solution pour les applications à haut débit et en laboratoire.