Occasion SAMCO RIE-1C #9357610 à vendre en France
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ID: 9357610
Reactive Ion Etcher (RIE)
Vacuum chamber:
Quartz: 212 mm diameter
Rectangular view port at front panel
Hinged lid with front mounted handle
Mesh cover
Electrodes:
Parallel plate design
Cathode coupling (RIE) mode
Distance: 44 mm (Fixed)
Upper electrode:
Aluminum
Diameter: 140 mm
Shower-head gas dispersion system
Lower electrode:
Type: Cathode (RF electrode)
Stainless steel
Diameter: 120 mm
Water cooled
Special tray:
Aluminum
Diameter: 120 mm
Maximum substrate size: 100 mm
RF Power source:
Solid state power generator
Crystal control
Power: 13.56 MHz, 200 W (Maximum)
RF Power interlock
With chamber lid
Vacuum pump:
Double stage rotary pump
Flow rate: 240 l/min
With PFPE pump fluid
Oil mist filter
Solenoid operated nitrogen gas ballast control valve
Couplings with metal vacuum hose
Vacuum gauge:
Capacitance monometer: 0-2 Torr
Gas delivery and inlet system:
(2) Mechanical flow meter controlled lines: CF4 / O2
Nitrogen purging line
Flow range: 0-20 SCCM
Timers:
Digital for process time: 0-99 Seconds, minutes / Hours
Resolution: 0.1s
Adjustable purging time: 0-60 Seconds
Audio alarm
Utilities required:
Step-down transformer
Cooling water: 2 Liter/min
Supply pressure: 15-20°C, 0.1-0.2 MPa
Supply and return connection: RC 1/4" and 1/4" O.D Tubing
Depth filter: 20 µm
Process gas supply: 0.1 MPa (15 psig)
Connection: Swagelok fittings, ¼"
Filters: 2 µm
Safety features:
Door interlock
Pressure interlock
Pressure reached alert
Venting:
Exhaust duct for pump
NW 25 Rotary pump exhaust
Power supply: 100 VAC, 15 A, Single phase.
SAMCO RIE-1C est un Rapid Ion Etcher (RIE) fabriqué par SAMCO, Inc. Il est conçu pour la gravure et l'ashing d'une variété de matériaux. Ce graveur lourd utilise un générateur RF haute puissance à commande électronique pour produire un faisceau d'ions très réactif, qui peut graver ou aspirer une variété de matériaux. L'équipement est adapté à une utilisation dans les laboratoires chimiques, les centres de recherche, les universités et les industries de haute technologie. La principale caractéristique de RIE-1C est son générateur RF de grande puissance. Ce générateur peut produire une puissance allant jusqu'à 4.2kW, ce qui permet des processus de gravure et de cueillette rapides. Il est également équipé d'un contrôleur numérique pour un contrôle précis de la puissance et de la vitesse de pompage. Ce contrôleur dispose d'une console d'affichage numérique, permettant à l'utilisateur d'ajuster facilement la puissance et d'autres paramètres pour différentes procédures de gravure et d'ashing. De plus, le graveur a une structure multicouche. La couche externe (cathode) est en alliage lourd, et la couche interne (substrat) est en alliage de titane. Cette structure double couche améliore le faisceau d'ions et assure une qualité constante du matériau gravé. Le générateur RF est alimenté en courant continu, qui est alimenté à partir d'un condensateur externe. Cela permet d'assurer une alimentation électrique ininterrompue, même pendant les processus de gravure et de cueillette à long terme. SAMCO RIE-1C est livré avec une gamme d'accessoires, dont une pompe de refroidissement à eau, un réservoir à gaz, des bobines RF, une lentille de focalisation automatique et un adaptateur d'alimentation en gaz. Cela permet une variété d'applications de gravure et de cendrage. En plus, RIE-1C a également une structure anti-contretemps pour maintenir le matériau gravé et cendré en place. En conclusion, SAMCO RIE-1C est un puissant graveur et asher, particulièrement adapté à une utilisation dans les laboratoires chimiques, les centres de recherche, les universités et les industries de haute technologie. Il dispose d'un générateur RF de grande puissance, d'un contrôleur numérique et d'une structure à double couche, offrant des matériaux gravés et cendrés de haute qualité. RIE-1C est également livré avec une gamme d'accessoires pour permettre une variété de différentes applications de gravure et d'ashing.
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