Occasion SAMCO RIE-200LE #293798663 à vendre en France

SAMCO RIE-200LE est un graveur/asher à plasma conçu pour les applications semi-conductrices et MEMS (Microelectromécanical Systems). Il est spécialement conçu pour assurer une gravure précise et uniforme de divers matériaux, dont le silicium, le dioxyde de silicium, le nitrure de silicium, les métaux et les polymères, ce qui en fait un outil essentiel pour la recherche et le développement dans les industries de la microélectronique et de la nanotechnologie. RIE-200LE utilise la technologie de gravure ionique réactive (RIE), un procédé qui implique l'utilisation du plasma pour éliminer sélectivement le matériau d'un substrat. Cette technique offre des taux de gravure élevés et une excellente sélectivité de gravure, ce qui la rend idéale pour créer des caractéristiques de ratio d'aspect élevé avec un contrôle dimensionnel serré. L'équipement est équipé d'une source d'énergie RF haute fréquence qui génère du plasma à l'intérieur de la chambre de réaction, où il interagit avec la surface de l'échantillon pour effectuer la gravure. Une des caractéristiques clés de SAMCO RIE-200LE est ses capacités avancées de contrôle des processus. Le système intègre une unité précise de contrôle du débit de gaz qui permet aux utilisateurs d'adapter les paramètres du processus de gravure, tels que la composition du gaz, le débit, la pression et la température, pour atteindre le profil de gravure et la sélectivité désirés. En outre, la machine offre un suivi en temps réel des paramètres du processus, tels que la puissance, la pression et la composition du gaz, permettant aux utilisateurs de peaufiner le processus de gravure pour obtenir des résultats optimaux. RIE-200LE est équipé d'un outil de mandrin polyvalent qui peut accueillir des échantillons de différentes tailles et formes, allant de petites plaquettes semi-conductrices à de plus grands substrats. La conception du mandrin assure un montage sûr des échantillons et une exposition au plasma uniforme sur toute la surface, minimisant les effets de gravure non uniformes et améliorant la répétabilité des processus. En outre, l'actif dispose d'un mécanisme de refroidissement actif pour maintenir la stabilité de la température de l'échantillon pendant le traitement, ce qui est crucial pour obtenir des résultats de gravure cohérents et reproductibles. Une autre caractéristique notable de SAMCO RIE-200LE est sa capacité multi-gaz, permettant aux utilisateurs d'effectuer un large éventail de processus de gravure utilisant différentes chimies de gaz. Le modèle prend en charge les gaz de gravure couramment utilisés, tels que l'oxygène, le chlore, le fluor et l'hexafluorure de soufre (SF6), ainsi que les gaz spéciaux pour des exigences spécifiques de gravure des matériaux. Cette flexibilité permet aux chercheurs et aux ingénieurs de procédés de développer des recettes de gravure personnalisées adaptées à leurs besoins d'application uniques, qu'il s'agisse de gravure de dispositifs semi-conducteurs, de structures MEMS ou de films minces avancés. En termes de sécurité et de commodité d'utilisation, RIE-200LE est équipé d'interconnexions de sécurité complètes et de systèmes de surveillance pour assurer la protection de l'opérateur et l'intégrité de l'équipement pendant l'exploitation. Le système dispose d'une interface conviviale qui permet une configuration et un fonctionnement faciles, avec des commandes logicielles intuitives pour configurer les paramètres de processus et surveiller les performances de l'unité en temps réel. En outre, la machine est conçue pour faciliter l'entretien, avec des composants accessibles et une construction robuste pour une fiabilité à long terme. Globalement, SAMCO RIE-200LE est un graveur/asher plasma puissant et polyvalent qui offre une gravure précise et uniforme d'une large gamme de matériaux pour des applications semi-conductrices et MEMS. Avec ses capacités avancées de contrôle des processus, sa compatibilité multi-gaz et sa conception conviviale, RIE-200LE est un outil indispensable pour les établissements de recherche, les universités et les installations de fabrication de semi-conducteurs qui cherchent à obtenir des résultats de gravure de haute qualité avec un contrôle et une fiabilité exceptionnels.