Occasion SAMCO RIE-200NL #293638507 à vendre en France

Fabricant
SAMCO
Modèle
RIE-200NL
ID: 293638507
Style Vintage: 1999
Reactive Ion Etcher (RIE) High frequency power supply: 13.56 MHz, maximum 300 W Crystal Oscillation control solid state type Impendence auto-matching Digital display in the touch panel Compound molecular pump Type: N2 Purge line with auto leak line auxiliary Direct connection type (rotary pump): 208 liters/min Automatic pressure control valve, 4" Perot seal air operated valve SUS316 Piping Pipe connection joint: 1/4" VCR Welded Mass flow controller: MFC Line / Gas / Flow MFC 1 / SiCi4 / 50 SCCM MFC 2 / CF4 / 100 SCCM MFC 3 / SF6 / 100 SCCM MFC 4 / SF6 / 100 SCCM MFC 5 / O2 / 100 SCCM 1999 vintage.
SAMCO RIE-200NL est un graveur à ions réactif pour une large gamme d'opérations de préparation et de gravure de surface. Il s'agit d'un équipement polyvalent qui peut être utilisé pour réaliser une variété d'applications, du petit lot à la gravure de haute précision. Cet etcher/asher est conçu pour fournir une bonne répétabilité des processus et une excellente résolution des fonctionnalités afin de produire des résultats cohérents et de haute qualité. Il convient à tout type de matériau, tel que le silicium polycristallin, le silicium amorphe, le verre et le métal. Ce système est basé sur une conception à double chambre, la chambre de gravure et la chambre de cueillette étant reliées entre elles par une seule pompe et un ensemble de capteurs. Cela permet à l'utilisateur de passer de la gravure à la cendre en quelques clics. La chambre principale est équipée d'une source de plasma à distance, qui peut être placée dans n'importe quelle position pour optimiser le processus de gravure. La chambre de gravure est en outre équipée d'une fenêtre cylindrique en verre, d'un joint de vide soufflet et d'une enveloppe de refroidissement pour stabiliser et contrôler la température du procédé. A l'intérieur de la chambre de gravure, RIE-200NL utilise des gaz de gravure pour décomposer et déposer du matériau de la surface du substrat. Le procédé de gravure peut être optimisé à l'aide de différents paramètres tels que vitesse de gravure, sélectivité, inductivité et épaisseur de couche. L'unité est capable de produire des caractéristiques sous-microns haute densité avec une excellente répétabilité, ce qui la rend idéale pour des applications de haute précision. SAMCO RIE-200NL peut également être amélioré avec des accessoires supplémentaires tels que masques d'ombre, doublures et espaceurs, ainsi que des capacités de traitement secondaires comme le chauffage et le refroidissement. La chambre de cueillette est utilisée pour éliminer les particules de carbone et de poussière, et est conçue avec une source de plasma intégrée pour assurer l'élimination optimale des particules. Les processus de gravure et de cueillette peuvent être surveillés et contrôlés à l'aide d'un ordinateur de bord, ainsi qu'à distance. En outre, toutes les pièces peuvent être facilement accessibles pour les travaux d'entretien et de réparation. La machine comprend également un outil optionnel de surveillance de la température en temps réel et sans contact pour optimiser le processus. Globalement, RIE-200NL est un graveur/asher efficace et fiable qui offre une excellente précision et répétabilité. Il est capable de produire des résultats haut de gamme avec une grande précision et efficacité, ce qui en fait un choix idéal pour une large gamme d'opérations de préparation et de gravure de surface.
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