Occasion SAMCO RIE-212iPC #9036931 à vendre en France
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ID: 9036931
ICP etching system, 8"
System type: cassette-to-cassette production
Active wafer temperature control (Helium backside cooling)
Electrostatic chuck for wafer clamping
Processing of multiple wafers possible using the tray cassette
Fully automatic operation using graphical touch panel screen
Data management and recipe management
Data logging is possible with use of an optional P
Application:
Low-damage etching of GaN, GaAs, InP for production of electronic and light emitting devices
Etching of ferroelectric materials for memory devices
High-speed etching for micromachine production
Currently operational
2009 vintage.
SAMCO RIE-212iPC est un outil de haute performance qui facilite une large gamme d'applications de gravure sur divers matériaux. Sa large gamme de fonctionnalités en font un outil idéal pour de nombreuses utilisations, y compris le nettoyage, la création de fonctionnalités, et la gravure de grandes zones. SAMCO RIE 212 IPC a une taille de chambre de 6000 cm ³ et est capable d'atteindre des températures allant jusqu'à 500ºC. Il dispose d'un dispositif de chauffage de haute précision et d'un équipement de contrôle de température en boucle fermée exigeant, permettant à l'utilisateur de contrôler avec précision la température de la source de plasma. RIE-212iPC est équipé d'une gamme de régulateurs de pression et de systèmes de distribution de gaz. Il peut être utilisé dans une large gamme de pressions, vous permettant de travailler avec une variété de gaz de processus. RIE 212 IPC dispose d'une pompe turbomoléculaire haute pression à haut débit qui assure une gravure cohérente, répétable, fiable et à haut débit. SAMCO RIE-212iPC dispose de trois modules sources de plasma à double source, vous permettant de sélectionner celui qui convient le mieux à votre application de gravure spécifique. Il dispose d'un système anti-collision qui évite les dommages aux parois de la chambre, aux joints de porte et aux composants de la chambre. SAMCO RIE 212 IPC dispose d'une gamme de fonctionnalités conçues pour faciliter son utilisation, telles qu'une interface de commande intuitive, un recul automatique du plasma et un espace suffisant pour le chargement et le déchargement des échantillons. Il est connecté à une unité de commande sophistiquée basée sur PC, permettant un fonctionnement facile et un accès à distance. RIE-212iPC dispose d'une machine RF haute efficacité qui peut fournir jusqu'à 200W à 13.56MHz pour des résultats de gravure de haute qualité. Il dispose également d'un outil de réglage automatique avancé, permettant une configuration rapide des paramètres du processus de gravure. En résumé, le graveur sec RIE 212 IPC est une machine idéale pour la gravure d'une large gamme de matériaux. Son atout de haute précision et de contrôle de la température permet des résultats de gravure précis avec une utilisation minimale du gaz, tandis que sa gamme de pressions, de gaz de procédé et de modules sources offre la flexibilité nécessaire pour trouver la meilleure configuration pour toute application. Son interface utilisateur intuitive et son modèle de puissance RF à haut rendement en font un excellent choix pour les applications de gravure.
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